不銹鋼蝕刻標(biāo)牌
不銹鋼蝕刻標(biāo)牌擁有外觀漂亮,視覺效果好,成本低(不用開模)的優(yōu)點(diǎn),廣東標(biāo)牌加工,廣泛應(yīng)用于各類標(biāo)示,商標(biāo)展示等。下面僅展示的幾個樣品。我司自成立以來,蝕刻標(biāo)牌一直是我司的重點(diǎn)業(yè)務(wù),生產(chǎn)過的標(biāo)牌樣式不計(jì)其數(shù),服務(wù)于多家大型外資企業(yè),光是蝕刻標(biāo)牌類業(yè)務(wù)一項(xiàng),年銷售額達(dá)三千萬。蝕刻生產(chǎn)的不銹鋼標(biāo)牌還可以制作出特殊的蝕刻紋理效果(如:磨砂紋,皮革紋,斜布紋,不銹鋼標(biāo)牌加工,裂紋等任意花紋),面板標(biāo)牌加工,無連接點(diǎn)蝕刻,半蝕刻,8K鏡面效果,拉絲面板效果。可蝕刻加工的材料也可以是銅板,鋁板,鎳合金,水晶滴膠標(biāo)牌加工,鎂鋁合金,SPCC冷軋鋼板。

化學(xué)蝕刻(Chemical etching)-- 氣態(tài)物質(zhì)(中性原子團(tuán))與表面反應(yīng), 產(chǎn)物必定易揮發(fā),也稱為等離子蝕刻。 等離子增強(qiáng)蝕刻(Ion-enhanced etching)—單獨(dú)使用中性原子團(tuán)不能形成易揮發(fā)產(chǎn)物,具有一定 能量的離子改變襯底或產(chǎn)物;具有一定能量的離子改變襯底或產(chǎn)物層,這樣,化學(xué)反應(yīng)以后 能生成揮發(fā)性物質(zhì),亦稱為反應(yīng)離子蝕刻(RIE) 。 濺射蝕刻(Sputter etching)--具有一定能量的離子機(jī)械的濺射襯底材料。 蝕刻速率(Etch rate)--材料的剝離速率,通常以?/min,?/sec,nm/min, um/min 為單位計(jì) 量。 各向同性蝕刻( Isotropic etch)-- 蝕刻速率在所有方向都是相同的。

設(shè)計(jì)程序 有了設(shè)計(jì)構(gòu)思后應(yīng)該有一個合理的執(zhí)行步驟, 以便按部就班。 標(biāo)識設(shè)計(jì)良好與建筑室內(nèi)裝飾 設(shè)計(jì)時(shí)期介入,以便同時(shí)考慮標(biāo)識與建筑風(fēng)格的協(xié)調(diào),以及標(biāo)識安裝所需條件。 通常整個導(dǎo)向標(biāo)識工程由四個階段完成: 概念設(shè)計(jì)-條件設(shè)計(jì)-方案評議修改-定案實(shí)施。 其中條件設(shè)計(jì)由如下程序進(jìn)行: 流程圖-布點(diǎn)定位-規(guī)格-內(nèi)容-色彩。
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