拉奇納米(圖)-超聲波化學氣相沉積-珠?；瘜W氣相沉積
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真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，金屬化學氣相沉積，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。
物相沉積技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。
物相沉積技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復性好等優(yōu)點。
真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，超聲波化學氣相沉積，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜。
置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，珠?；瘜W氣相沉積，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。
通常真空鍍膜要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源與基板距離較遠和薄膜質(zhì)量要求很高的場合，則要求壓力更低。
真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種：
1、真空蒸鍍
其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì)，多功能化學氣相沉積，使其氣化或升華，蒸發(fā)離子流直接射向基片。
2、濺射鍍膜
濺射鍍膜是真空條件下，帶正電的離子撞擊，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。
3、離子鍍膜
利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)（膜材）部分離化，并在離子轟擊下，將蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基片表面。
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