東莞拉奇納米(圖)-金屬化學氣相沉積-東莞化學氣相沉積

? ? ? ?電子束蒸發(fā)鍍是將蒸發(fā)材料放入水冷銅坩鍋中，直接利用電子束加熱，使蒸發(fā)材料氣化蒸發(fā)后凝結(jié)在基板表面形成膜，金屬化學氣相沉積，是真空蒸發(fā)鍍膜技術中的一種重要的加熱方法和發(fā)展方向。電子束蒸發(fā)克服了一般電阻加熱蒸發(fā)的許多缺點，特別適合制作熔點薄膜材料和高純薄膜材料。

? ? ? ?優(yōu)點：

? ? ? ?1、電子束轟擊熱源的束流密度高，能獲得遠比電阻加熱源更大的能量密度。

? ? ? ?2、由于被蒸發(fā)材料是置于水冷坩鍋內(nèi)，因而可避免容器材料的蒸發(fā)，以及容器材料與蒸鍍材料之間的反應，這對提高鍍膜的純度極為重要。

? ? ? ?3、熱量可直接加到蒸鍍材料的表面，因而熱效率較高熱傳導和熱輻射的損失少。

? ? ? ?真空鍍膜涂層附著力的影響因素：

? ? ? ?首先一大因素就是材質(zhì)，有些材質(zhì)不適合做真空鍍膜涂層，例如鋅合金、鋁和裸銅等，超聲波化學氣相沉積，直接做真空鍍膜會出現(xiàn)起泡、掉摸等附著力差的現(xiàn)象。

? ? ? ?其次附著力受產(chǎn)品表面的潔凈度影響，如果產(chǎn)品表面的臟污、雜質(zhì)或者披鋒等沒有清理干凈，真空鍍膜涂層就會附著在這些雜質(zhì)上，一旦雜質(zhì)掉落，涂層也隨之剝落，我們稱之為假附著。

? ? ? ?第三個影響因素就是基材的耐腐蝕性能，真空涂層雖細膩致密，但是基材缺陷并不能完全覆蓋，基材腐蝕一般從缺陷處開始，基材一旦被腐蝕，膜層就成了中空狀態(tài)或者直接隨之剝落；第四個影響因素就是工藝的優(yōu)良程度，沉積的溫度、偏壓等是否到位，東莞化學氣相沉積，沉積的膜層應力是否過大等等；產(chǎn)品在非常特殊的環(huán)境下使用，而這種環(huán)境又超出真空鍍膜涂層能承受的范圍。

? ? ? ?真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分支，它已廣泛地應用于光學、電子學、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學以及科學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法。首先在光學方面，一塊光學玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質(zhì)的薄膜后，即可成為高反射或無反射(即增透膜)或者作任何預期比例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長的吸收，而對另一種波長的透射的濾色名片。