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供應(yīng)1200℃氣相沉積爐

供應(yīng)1200℃氣相沉積爐

北京市氣相沉積爐廠家

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供應(yīng)1200℃氣相沉積爐
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詳細(xì)信息(供應(yīng)1200℃氣相沉積爐)
 

HKCVD-1200由開啟式單(雙)溫區(qū)管式爐、高真空擴(kuò)散泵系統(tǒng)、壓強(qiáng)控制儀及多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)組成??蓪崿F(xiàn)真空達(dá)0.001Pa混合氣體化學(xué)氣相沉積和擴(kuò)散試驗。

主要功能和特點

1、高真空系統(tǒng)由前級雙級旋片真空泵和后級擴(kuò)散泵組成,真空可達(dá)0.001Pa;

2、可配合壓強(qiáng)控制儀控制氣體壓力實現(xiàn)負(fù)壓的精準(zhǔn)控制;

3、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計,流量顯示儀等組成,實現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制;每條氣體管路均配備高壓逆止閥,保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性。

4、采用KF快速法蘭密封,裝卸方便快捷;管路采用*Swagelok卡套連接,不漏氣;

5、超溫、過壓時,自動切斷加熱電源及流量計進(jìn)氣,使用安全可靠。

主要用途和適用范圍

高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD/CVI實驗,特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結(jié)等場所。

技術(shù)參數(shù):

HKCVD-1200

本產(chǎn)品通過歐盟CE認(rèn)證,保證了設(shè)備的運行安全.

控溫方式

采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù),具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能,并可編制30段升降溫程序。

加熱元件

0Cr27Al7Mo2

工作電源

AC220V 50HZ/60HZ

額定功率

4KW

爐管尺寸

Φ60/Φ80/Φ100*1000mm

工作溫度

1150

溫度

1200

恒溫精度

±1

加熱區(qū)長度

440mm220mm/220mm

升溫速度

20/min

密封方式

不銹鋼快速法蘭擠壓密封

HKCVD-1200-K

真空范圍

0.1-0.01Pa

極限真空

4.0*10^-4Pa

產(chǎn)品配置

雙級旋片真空泵+擴(kuò)散泵

測量方式

復(fù)合真空計

真空規(guī)管

電阻規(guī)+電離規(guī)

冷卻方式

水冷

工作電源

AC380V 50/60HZ

抽 速

100L/S

HKCVD-1200-I

測量范圍

1*10^51*10^-1 Pa

穩(wěn)壓(真空)范圍

1*10^31*10Pa

壓力(真空)穩(wěn)定精度

±3%

控制范圍

2.5*10^35*10^-1 Pa

控制精度

±1%

HKCVD-1200-

控制方式

D07-7K質(zhì)量流量計,D08流量顯示儀

流量規(guī)格

0500SCCM /01SLM(可根據(jù)客戶需要配置)

線 性

±1%F.S

準(zhǔn)確度

±1%F.S

重復(fù)精度

±0.2%F.S.

響應(yīng)時間

2sec

耐 壓

3MPa

氣路通道

3通道(根據(jù)客戶需求)

針 閥

316不銹鋼

管 道

Φ6mm不銹鋼管

接 口

SwagelokΦ6mm

標(biāo)簽:     北京市氣相沉積爐   北京市氣相沉積爐廠家
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