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供應(yīng)蒸發(fā)料蒸鍍材料真空鍍膜材料 供應(yīng)蒸發(fā)料蒸鍍材料真空鍍膜材料

供應(yīng)蒸發(fā)料蒸鍍材料真空鍍膜材料

北京市蒸發(fā)料蒸鍍材料廠家

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北京中金研新材料科技有限公司(CNM)是坐落于中關(guān)村科技園區(qū)的國(guó)家,由業(yè)內(nèi)為發(fā)起人,整合了國(guó)內(nèi)科研院校的優(yōu)勢(shì)資源,吸收國(guó)內(nèi)外科學(xué)的管理經(jīng)驗(yàn)而成立。人才儲(chǔ)備豐富,資金力量雄厚,通過ISO9001:2008質(zhì)量體系及ISO14001:2004環(huán)境管理體系認(rèn)證,具有自主進(jìn)出口權(quán)。
   北京中金研新材料科技有限公司在各種高純材料、鍍膜材料、濺射靶材、功能材料及應(yīng)用技術(shù)研究開發(fā)方面,有著的優(yōu)勢(shì)。以堅(jiān)強(qiáng)的技術(shù)為基礎(chǔ),我公司開發(fā)了多個(gè)系列的新材料,這些產(chǎn)品牌號(hào)約百余種。已在航空航天、、信息電子、真空鍍膜、冶金、功能材料、生物醫(yī)藥、新能源等行業(yè)獲得廣泛應(yīng)用。目前擁有鍍膜材料、濺射靶材、高純材料、高純合金等多條生產(chǎn)線,生產(chǎn)設(shè)備,工藝完善。
目前,我們的客戶遍及美國(guó).德國(guó).日本.韓國(guó).臺(tái)灣.香港等十幾個(gè)國(guó)家和地區(qū),包括國(guó)內(nèi)外科研,上市公司等企事業(yè)在內(nèi)的六百余家單位。
    北京中金研新材料科技有限公司下設(shè)鍍膜材料、濺射靶材、金屬粉末、高純材料等事業(yè)部,熱烈歡迎新老客戶垂詢。我公司秉承以誠(chéng)信為本,科技為本的理念,致力打造成金屬新材料行業(yè)的羊。
 
磁控濺射靶材
(可為電子與半導(dǎo)體,平面顯示行業(yè),建筑與汽車玻璃行業(yè),薄膜太陽(yáng)能電池行業(yè),磁存儲(chǔ)行業(yè),工具行業(yè),裝飾行業(yè)提供靶材)
高純單質(zhì)金屬濺射靶材(3N-6N鋁靶Al,鉻靶Cr,銅靶Cu,鎳靶Ni,硅靶Si,鍺靶Ge,鈮靶Nb,鈦鈀Ti,銦靶In,銀靶Ag,錫靶Sn,石墨靶C,鉭靶Ta,鉬靶Mo,金靶Au,鉿靶Hf,錳靶Mn,鋯靶Zr,鎂靶Mg,鋅靶Zn,鉛靶Pb,銥靶Ir,釔靶Y,鈰靶Ce,鑭靶La,鐿靶Yb,釓靶Gd,鉑靶Pt等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。
高密度陶瓷濺射靶材(3N-5NITO靶、AZO靶,IGZO靶,氧化鎂靶MgO、氧化釔靶Y2O3,氧化鐵靶Fe2O3,氧化鎳靶Ni2O3,氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、靶CdS,硫化鉬靶MoS2,二氧化硅靶SiO2、一氧化硅靶SiO、二氧化鋯靶ZrO2、五氧化二鈮靶Nb2O5、二氧化鈦靶TiO2,二氧化鉿靶HfO2,二硼化鈦靶TiB2,二硼化鋯靶ZrB2,三氧化鎢靶WO3,三氧化二鋁靶Al2O3,五氧化二鉭靶Ta2O5、氟化鎂靶MgF2、靶ZnSe、氮化鋁靶AlN,氮化硅靶Si3N4,氮化硼靶BN,氮化鈦靶TiN,碳化硅靶SiC,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶等高密度陶瓷濺射靶材.
備注:CNM生產(chǎn)的陶瓷靶材采用最的陶瓷生產(chǎn)工藝惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù),相對(duì)密度大于95-99%??梢蕴峁┌胁牡慕饘倩幚砑敖壎ǚ?wù)。
高純合金濺射靶材:鎳釩合金靶Ni-V,鎳鉻合金靶Ni-Cr,鈦鋁合金靶Ti-Al,合金靶Si-Al,銅銦合金靶Cu-In,銅鎵合金靶Cu-Ga,銅銦鎵合金靶Cu-In –Ga,銅銦鎵硒靶Cu-In –Ga-Se,不銹鋼靶,鋅鋁合金靶Zn-Al,鎢鈦 W-Ti,鐵鈷 Fe-Co,白銅靶等高純合金濺射靶材。
備注:CNM生產(chǎn)的高純合金濺射靶材:晶粒度小150-60um,相對(duì)密度高(99-99.9%),純度高(99.9-99.999%)??梢蕴峁┌胁牡慕饘倩幚砑敖壎ǚ?wù)。
 
真空鍍膜材料
(鍍制:復(fù)合膜,彩色膜,增透膜,透紫外膜,氣敏傳感器膜,高溫介質(zhì)膜,光學(xué)膜,激光裝置濾光片,保護(hù)膜,透明導(dǎo)電膜,變色膜,優(yōu)良的寬帶增透膜,磁性薄膜,可見光區(qū)增透膜,紅外增透膜,分光膜,多層膜,高反射膜,電阻膜,熱反射膜,冷光膜膜
真空鍍膜材料(4N-5N):
1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5,五氧化二鈮Nb2O5,五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3等高純氧化物鍍膜材料。
2.氟化物:氟化釹NbF3,BaF2,氟化鈰CeF3,氟化鎂MgF2,LaF3,氟化釔YF3,氟化鐿YbF3,氟化鉺ErF3等高純氟化物。
3.其它化合物:硫化鋅ZnS,ZnSe,氮化鈦TiN,碳化硅SiC,鈦酸鑭LaTiO3,鈦酸鋇BaTiO3,鈦酸鍶SrTiO3,鈦酸鐠PrTiO3,CdS等真空鍍膜材料。
4.金屬鍍膜材料:高純鋁Al,高純銅Cu,高純鈦Ti,高純硅Si,高純金Au,高純銀Ag,高純銦In,高純鎂Mg,高純鋅Zn,高純鉑Pt,高純鍺Ge,高純鎳Ni,高純金Au,金鍺合金AuGe,金鎳合金AuNi,鎳鉻合金NiCr,鈦鋁合金TiAl,銅銦鎵合金CuInGa,銅銦鎵硒合金CuInGaSe,鋅鋁合金ZnAl,鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。
備注:CNM生產(chǎn)的真空鍍膜材料均通過SGS認(rèn)證,純度高,濺點(diǎn)少,放氣量小,薄膜均勻,附著力強(qiáng),抗腐蝕性強(qiáng),顏色均勻等優(yōu)點(diǎn)。
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