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  • 產(chǎn)地: 北京
  • 規(guī)格: 1-3mm
  • 用途: 蒸發(fā)鍍膜
  • 定制: 電議
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北京眾誠新材科技專業(yè)從事高純金屬材料生產(chǎn)加工,采用區(qū)域熔煉法,真空熔煉法,熱等靜壓燒結(jié),電解精煉法提純等工藝,高純金屬純度達(dá)到99.9%-99.999%,產(chǎn)品品質(zhì)高,使用效果穩(wěn)定。

陶瓷化合物蒸發(fā)顆粒(純度3N-4N,尺寸1-3mm):一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化鈣、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩、氟化鎂、氟化鈣、、氟化鐿、氟化釔、、硫化物、硫化鋅、硫化鈣、硫化銻等陶瓷蒸發(fā)顆粒。


高純單質(zhì)金屬濺射靶材(3N-5N):鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鎳靶Ni、鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、石墨靶C、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。 

高純陶瓷化合物濺射靶材(3N-4N):ITO靶、AZO靶、IGZO靶、氧化鎂靶MGO、氧化釔靶Y2O3、氧化鐵靶Fe2O3、氧化鎳靶Ni2O3、氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5等高密度陶瓷濺射靶材。 
備注:眾誠新材生產(chǎn)的陶瓷靶材采用的陶瓷生產(chǎn)工藝;惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù),相對(duì)密度大于95-99%,可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。

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