專業(yè)生產 量大從優(yōu) 光學真空鍍膜材料壓片圓柱 白片 二氧化鋯小

本產品可替代二氧化鋯形成高質量高折射率膜層，與傳統(tǒng)二氧化鋯相比，該鍍膜材料克服了二氧化硅鉆坑效應，及失氧趙成的折射率漂移等工藝的不穩(wěn)定性。

1.該材料適用于電子束蒸發(fā)或鎢舟熱蒸發(fā)，材料熔點1880℃熔融蒸發(fā)，蒸發(fā)溫度1600－2000℃

2.材料透光波段0.37-12，折射率可調范圍n=1.92-2.2

3.材料比重1立方厘米5.37g，外光為灰色或灰色粒度，1－3mm，3－5mm，5－8mm，或10mm*5mm,特殊規(guī)格可約定制作。

4.該材料與低折射率材料（MgF2,SiO2等）很容易實現(xiàn)搭配，形成致密牢固的高質量光學膜層。

5.雜質分析（％）Cu 0.001    Fe 0.003    Mn 0.003  Cr 0.0001    Co 0.003    Ta 0.003    Ni 0.003     Pb  0.004

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