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本產(chǎn)品可替代二氧化鋯形成高質(zhì)量高折射率膜層,與傳統(tǒng)二氧化鋯相比,該鍍膜材料克服了二氧化硅鉆坑效應(yīng),及失氧趙成的折射率漂移等工藝的不穩(wěn)定性。
1.該材料適用于電子束蒸發(fā)或鎢舟熱蒸發(fā),材料熔點(diǎn)1880℃熔融蒸發(fā),蒸發(fā)溫度1600-2000℃
2.材料透光波段0.37-12,折射率可調(diào)范圍n=1.92-2.2
3.材料比重1立方厘米5.37g,外光為灰色或灰色粒度,1-3mm,3-5mm,5-8mm,或10mm*5mm,特殊規(guī)格可約定制作。
4.該材料與低折射率材料(MgF2,SiO2等)很容易實(shí)現(xiàn)搭配,形成致密牢固的高質(zhì)量光學(xué)膜層。
5.雜質(zhì)分析(%)Cu 0.001 Fe 0.003 Mn 0.003 Cr 0.0001 Co 0.003 Ta 0.003 Ni 0.003 Pb 0.004
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