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一種低氣壓氣體放電裝置,一般由三部分組成:產(chǎn)生等離子體的電源、放電室、抽真空系統(tǒng)和工作氣(或反應(yīng)氣)供給系統(tǒng)。通常有四類:靜態(tài)放電裝置(圖5之a(chǎn))、高壓電暈放電裝置(圖5之b)、高頻(射頻)放電裝置(有3種類型,圖5之c)和微波放電裝置(圖5之d)。把被處理的固體表面或需要聚合膜層的基體表面置于放電環(huán)境中,由等離子體處理。由于低氣壓等離子體為冷等離子體,當氣壓為 133~13.3帕左右時,電子溫度高達10000開,而氣體溫度只有300開,既不致燒壞基體,又有足夠能量進行表面處理。 低氣壓等離子體發(fā)生器已日益廣泛應(yīng)用于等離子體聚合、制備薄膜、刻蝕、清洗等表面處理工藝中。
在工業(yè)中已有多方面的應(yīng)用,特別是在等離子體化工、冶金和光學(xué)材料提純等方面。它還可制備超導(dǎo)材料,如用氫高頻等離子體還原釩-硅(或釩-鍺),鈮-鋁(或鈮-鍺)的蒸氣以制備超導(dǎo)材料
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