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品牌： 其他
型號： 等離子發(fā)生器
加工定制： 否
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　一種低氣壓氣體放電裝置，一般由三部分組成：產(chǎn)生等離子體的電源、放電室、抽真空系統(tǒng)和工作氣（或反應(yīng)氣）供給系統(tǒng)。通常有四類：靜態(tài)放電裝置（圖5之a(chǎn)）、高壓電暈放電裝置(圖5之b)、高頻（射頻）放電裝置（有3種類型，圖5之c）和微波放電裝置（圖5之d）。把被處理的固體表面或需要聚合膜層的基體表面置于放電環(huán)境中，由等離子體處理。由于低氣壓等離子體為冷等離子體，當氣壓為 133～13.3帕左右時，電子溫度高達10000開，而氣體溫度只有300開，既不致燒壞基體，又有足夠能量進行表面處理。　低氣壓等離子體發(fā)生器已日益廣泛應(yīng)用于等離子體聚合、制備薄膜、刻蝕、清洗等表面處理工藝中。

在工業(yè)中已有多方面的應(yīng)用，特別是在等離子體化工、冶金和光學(xué)材料提純等方面。它還可制備超導(dǎo)材料，如用氫高頻等離子體還原釩－硅（或釩－鍺），鈮－鋁（或鈮－鍺）的蒸氣以制備超導(dǎo)材料

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