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一種低氣壓氣體放電裝置，一般由三部分組成：產(chǎn)生等離子體的電源、放電室、抽真空系統(tǒng)和工作氣（或反應氣）供給系統(tǒng)。通常有四類：靜態(tài)放電裝置（圖5之a(chǎn)）、高壓電暈放電裝置(圖5之b)、高頻（射頻）放電裝置（有3種類型，圖5之c）和微波放電裝置（圖5之d）。把被處理的固體表面或需要聚合膜層的基體表面置于放電環(huán)境中，由等離子體處理。由于低氣壓等離子體為冷等離子體，當氣壓為 133～13.3帕左右時，電子溫度高達10000開，而氣體溫度只有300開，既不致燒壞基體，又有足夠能量進行表面處理。

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