RIE反應(yīng)離子刻蝕 SI 591
反應(yīng)離子刻蝕機SI 591采用模塊化設(shè)計,可滿足III/V半導(dǎo)體和Si加工工藝領(lǐng)域的的靈活應(yīng)用。 SENTECH SI 591可應(yīng)用于各種領(lǐng)域的蝕刻工藝中,能夠完成多種刻蝕加工。
主要特點:
高均勻性和優(yōu)重復(fù)性的蝕刻工藝
預(yù)真空鎖loadlock
電腦控制操作
SENTECH等離子設(shè)備操作軟件
數(shù)據(jù)資料記錄
穿墻式安裝方式
刻蝕終點測
系統(tǒng)配置:
平行板式反應(yīng)線圈,13.56 MHz (600 W)
噴淋頭式進氣
預(yù)真空鎖loadlock, 帶有取放機械手
絕緣、冷卻和加熱電極(-25℃至80℃),基底4"-8"直徑,基底托架可支持小片材料和多晶圓。
PLC控制, PC
SENTECH等離子設(shè)備操作軟件
特性:
全自動/手動過程控制
Recipe控制刻蝕過程
智能過程控制,包括跳轉(zhuǎn)、循環(huán)]調(diào)用recipe。
多用戶權(quán)限設(shè)置
數(shù)據(jù)資料記錄
LAN網(wǎng)絡(luò)接口
Windows NT 操作軟件
標簽:
SENT 離子 刻蝕
SENTECH 離子 刻蝕
北京市離子刻蝕
北京市離子刻蝕廠家