[脫硝噴槍]
郵箱:
手機(jī):
上海碩馨機(jī)電設(shè)備有限公司位于嘉定區(qū)馬陸鎮(zhèn),主要生產(chǎn)-噴嘴、噴槍系列,可根據(jù)客戶提供的圖紙或參數(shù)生產(chǎn)加工,或者客戶的需求設(shè)計(jì)定制,廠家位于上海嘉定馬陸鎮(zhèn)豐年路985號(hào),如需有特殊材質(zhì)或者特殊規(guī)格的噴嘴、噴槍,請(qǐng)聯(lián)系13671632195王經(jīng)理,歡迎隨時(shí)來電!
于石灰石的粒度和漿液中過剩的石灰質(zhì)量,直接關(guān)系到吸收利用率。
五、循環(huán)漿液的含固量和固體物停留時(shí)間
為了防止循環(huán)漿液在吸收塔內(nèi)部構(gòu)件上結(jié)垢,必須保持液相有足夠的“品種”和充梧的反應(yīng)
時(shí)間以便讓漿液達(dá)到過飽和,結(jié)晶析出于品種表面并不斷生長.同時(shí),吸收劑的溶解也需要一定
的時(shí)間。這就是說,漿液中的含固量必航控制,固體物要有停留時(shí)間。
通常,為提供適量品種防止結(jié)垢,漿液中的含固量不得低于5%(質(zhì)量分?jǐn)?shù)).維持較
高的含固量對(duì)吸收過程的脫硫效率和副產(chǎn)石音的質(zhì)量固然有利,但對(duì)運(yùn)行設(shè)備和管道閥件的磨損
嚴(yán)重,所以漿液含固不允許太高。反應(yīng)槽中漿液濃度也是工藝控制參數(shù)之一,通常保持漿液反應(yīng)
槽的產(chǎn)出平衡,控制排出流量,便可大致控制漿液濃度,同時(shí)調(diào)節(jié)來自脫水裝置的溢流和底流漿
液量,使反應(yīng)槽內(nèi)漿液濃度趨于穩(wěn)定,這對(duì)脫硫效率和石膏質(zhì)量的穩(wěn)定以及防止結(jié)垢是有利的.
漿液團(tuán)體物在反應(yīng)槽中的平均停留時(shí)間T的表達(dá)式為
反應(yīng)槽中固體物總量
反應(yīng)槽中的漿液總體積
觀硫副產(chǎn)物平均產(chǎn)出率一送在脫水系統(tǒng)的平均漿液流量一返回反應(yīng)和的溢流流量
該平均停留時(shí)間單位以“h”計(jì),也反映反應(yīng)槽有效漿液體積的大小,鈣基FGD工藝的典
型T值為12~24h,一般不應(yīng)少于15h.
這是傳統(tǒng)濕式FCD系統(tǒng)設(shè)計(jì)的一個(gè)重要參數(shù).適宜的了值有利于提高吸收劑的利用率和石
青純度,有利于石膏結(jié)品的長大和脫水。但T值不宜過大,否則反應(yīng)槽體積大,會(huì)增加投資費(fèi)
用。而T值過大,由于泵和攪拌器對(duì)石膏品體的磁牌作用,影響脫水效果。
在石灰石FGD工藝中,石灰石利用率與煤液固體物的停留時(shí)間有密切關(guān)系,可以用下式
表達(dá):
式中,Kc.為石灰石反應(yīng)速率參數(shù),與石灰石組成、粒度和漿液pH值相關(guān)。
一般,石灰石利用率?c.是隨著漿液固體物在反應(yīng)槽中停留時(shí)間T的增大而增大的.亦即隨
著反應(yīng)槽容積增大而增大,但當(dāng)增大至一定程度后會(huì)變得緩慢起來。因此,反應(yīng)槽的容積并非意
大意好,應(yīng)當(dāng)根據(jù)石灰石的反應(yīng)性能,工程造價(jià)以及對(duì)系統(tǒng)工藝的影響綜合確定.
為了描述漿液在吸收塔內(nèi)循環(huán)一次在反應(yīng)槽中的平均停留時(shí)間,采用漿液停留時(shí)間T.:
單位以“min”計(jì)。T增大,反應(yīng)槽的漿液體積增大,T.亦增大,故T,是與T相關(guān)的參
數(shù),不過當(dāng)反應(yīng)槽漿液體積一定時(shí),T.隨循環(huán)漿液總流量的增大而減小,即T,與L/G有關(guān).
石灰石FGD工藝的T.一般為3.5~7min,多取5min,提高T.值,有利于吸收過程的各反
應(yīng)步驟,有利于石灰石的溶解,也有利于提高石灰石的利用率。
六.漿液的濃度
FGD系統(tǒng)中,物的來源是燃煤、補(bǔ)加水和吸收劑.一般石灰石額含量很少,工業(yè)補(bǔ)加
水含額1.2~150mg/L,我國燃煤氯含量≤0.05%,個(gè)別高于0.05%~0.15%,少數(shù)高灰分煤可
達(dá)0.47%。因此FGD系統(tǒng)中的氯主要來自燃煤,是在工業(yè)規(guī)程中必須加以說明的重要數(shù)器.
煙氣中的HCI來自燃料和工業(yè)水,在FGD系統(tǒng)中以CaClh和MgCl:形式出現(xiàn)在漿液中,將
可能造成設(shè)備材料的腐蝕,還可能影響脫硫效率和吸收劑利用率,以及降低石膏圍產(chǎn)品的利用
價(jià)值。
國外,對(duì)漿液中物濃度規(guī)定的大致范圍為10~50g/L,石灰法FCD采用低側(cè)值.因?yàn)?br /> 高CI-將增加石膏脫水的難度,而石灰石法FGD采用高側(cè)值。由于有強(qiáng)制氧化步驟,漿液中
注冊(cè)資金:100萬-500萬
聯(lián)系人:王春林
固話:
移動(dòng)手機(jī):13671632195
企業(yè)地址:上海市 上海市 嘉定區(qū)