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研創(chuàng)新材氧化鉿靶材 氧化鉿顆粒 氧化* 研創(chuàng)新材氧化鉿靶材 氧化鉿顆粒 氧化* 研創(chuàng)新材氧化鉿靶材 氧化鉿顆粒 氧化* 研創(chuàng)新材氧化鉿靶材 氧化鉿顆粒 氧化*

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[高純氧化鉿靶材

二氧化鉿靶材

二氧化鉿顆粒

二氧化末]

臨沂市氧化鉿靶材氧化鉿顆粒氧化廠家

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詳細(xì)信息(研創(chuàng)新材氧化鉿靶材 氧化鉿顆粒 氧化*)
  • 品名: 二氧化鉿
  • 牌號(hào): YC-二氧化鉿
  • 產(chǎn)地: 山東
  • 鎳含量: 0.001
  • 主要金屬含量: 氧化鉿
  • 雜質(zhì)含量: 0.001
  • 粒度: 均勻
  • 高純氧化鉿靶材99,999: 圓片狀方片狀按客戶要求定做
  • 二氧化鉿顆粒: 3-15mm
  • 二氧化鉿粉末: 100-800目按客戶要求篩選

臨沂研創(chuàng)新材料科技有限公司

名  稱:二氧化鉿

熔  點(diǎn):2812℃
符  號(hào):HfO2          
原子量:210.49 密  度:9.68g/cm3
純  度:4N 
產(chǎn)品規(guī)格 狀態(tài) 純度 尺寸 包裝
顆粒(黑色) 4N 1-3mm或壓片狀 100g,500g,1kg
顆粒(白色) 4N 1-3mm或壓片狀 100g,500g,1kg
粉末 4N 200目 100g、250g、1kg
靶材 4N Φ50.8、Φ76.2、Φ101.6 真空包裝
產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn) 蒸發(fā)壓力:在2678℃時(shí)1Pa;在2875℃時(shí)10Pa
線膨脹系數(shù):5.6×10-6/K
溶解度:不溶解于水
薄膜特性:透光范圍~220~12000nm;折射率(250nm)~2.15 (500nm)~2
蒸發(fā)條件:用電子槍,氧分壓~1~2×10-2Pa。蒸發(fā)溫度~2600~2800℃,基片溫度~250℃,蒸發(fā)速率2nm/s

應(yīng)用領(lǐng)域:UV增透膜,干涉膜



臨沂研創(chuàng)新材料科技有限公司單質(zhì)金屬靶材 合金靶材 陶瓷濺射靶材 及熔煉添加鍍膜材料如下



合金靶材:鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、鎳鈷Ni-Co、鎳鐵Ni-Fe、鎳鉻Ni-Cr、鎳鋯Ni-Zr、鎳鋁Ni-Al、鎳銅Ni-Cu、鎳釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、鋅鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁  V-Al 、 鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe等。

 陶瓷靶材 
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶,、二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,二硼化鋯靶,三氧化鎢靶,三氧化二鋁靶,五氧化二鉭,五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、靶、氮化鋁靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化鈦靶,碳化硅靶,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、等陶瓷靶材。產(chǎn)品通過各種方法(磁控濺射、真空鍍等)應(yīng)用真空鍍膜的各種領(lǐng)域:科學(xué)研究,航天航空,汽車,微電子,集成電路產(chǎn)業(yè),光源,光學(xué),裝飾,平面顯示器產(chǎn)業(yè),信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè),數(shù)據(jù)存儲(chǔ)等等。                                                              



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注冊(cè)資金:100萬-500萬

聯(lián)系人:劉軍

固話:0539-7462958

移動(dòng)手機(jī):18910497526

企業(yè)地址:山東 臨沂市 蒙陰縣

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