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[光離子質(zhì)譜同時(shí)測量]
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技術(shù)參數(shù)
1、錐型接口,安裝在電爐內(nèi)噴射分離器,石英型
2、溫度范圍,室溫到1100度
3、質(zhì)譜范圍,m/z 1~410
主要特點(diǎn)
1、采用光離子化原理是無碎片的軟離子方法
2、選擇電子碰撞電離模式和光離子化模式
3、通過雙孔結(jié)構(gòu)錐形分離器實(shí)現(xiàn)高靈敏度高活性氣體捕獲
4、測量范圍從氫m/z1到m/z410
5、在高靈敏度下檢測逸出氣體
6、通過動態(tài)TG和MS調(diào)試測量分離復(fù)雜反應(yīng)
應(yīng)用:
1、儲氫合金分析
2、催化相關(guān)的無機(jī)氣體分析
3、材料微量逸出氣體的檢測,以及密封環(huán)氧樹脂、電子聚合物薄膜的檢測
4、塑料微量逸出氣體分析,用于食品和醫(yī)療目的或加熱時(shí)的確認(rèn)測試
5、聚合物的熱降解特征
6、藥品性評價(jià)
儀器介紹
該儀器是采用錐形TG-DTA-MS無碎片光電子離子技術(shù)實(shí)現(xiàn)高精度逸出氣體分析??梢詼?zhǔn)確測量微量的氫。是支持新材料發(fā)展,建立制造技術(shù),質(zhì)量控制以及基礎(chǔ)研究必不可少的工具。
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標(biāo)簽: 光離子質(zhì) 光離子質(zhì)譜同時(shí)測量 北京市離子質(zhì)譜測量 北京市離子質(zhì)譜測量廠家注冊資金:100萬-500萬
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