實驗室用鄭科探小型真空鎢舟熱蒸鍍儀KT-Z1650CVD

電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī) 電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)是鄭州科探儀器設(shè)備有限公司生產(chǎn)，臺式設(shè)計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面 小型蒸鍍儀 鄭州科探KT-Z1650CVD，臺式設(shè)計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史**久的PVD鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的示意圖。 技術(shù)規(guī)格： - 基底尺寸：3英寸，4英寸，6英寸； - 基底旋轉(zhuǎn)：8轉(zhuǎn)/分鐘； - 熱蒸發(fā)源：電阻式熱蒸發(fā)舟，交流電源； - 腔體：不銹鋼或石英腔體可供客戶選擇； - 泵：前級干泵，分子泵； - Load Lock樣品傳輸腔室：手動或自動傳輸，高真空，支持多種樣品襯底(選配)； - 工藝控制：PC/PLC機(jī)制的自動控制、數(shù)據(jù)處理、工藝記憶儲存； - 原位監(jiān)控：石英晶振監(jiān)測(QCM)，光學(xué)監(jiān)測，殘余氣體分析，其他原位監(jiān)測技術(shù)或控制； - 襯底固定：單襯底固定，客戶化襯底固定方式； - 襯底夾具：加熱，冷卻，偏置，旋轉(zhuǎn)等； - 保護(hù)樣品：配有樣品擋板，可手動或自動開/關(guān)擋板，達(dá)到及時遮擋樣品效果； 是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動樣品擋板，靶臺旋轉(zhuǎn)，觸摸屏多段控制，工藝儲存等功能。 正空蒸發(fā)鍍膜包括以下基本過程：（1）加熱蒸發(fā)過程：包括由凝聚相轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀嗟倪^程，每種蒸發(fā)物質(zhì)在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。（2）氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間運輸，即原子或分子在環(huán)境氣氛中的飛行過程。 （3）蒸發(fā)原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發(fā)，凝聚，成核，核生長，形成連續(xù)的膜。由于基板溫度遠(yuǎn) 低于基板溫度遠(yuǎn)低于蒸發(fā)源溫度，因此，氣態(tài)分子在基片表面將發(fā)生直接由氣態(tài)到固態(tài)的相轉(zhuǎn)變過程。