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鄭科探KT-Z1650PVD 科研小型磁探濺射儀

[離子濺射儀

真空鍍膜機(jī)小型離子濺射儀

科研磁探濺射儀

氣敏溫度材料濺射儀器

小型真空濺射儀]

鄭州市鄭科探科廠家

價(jià)格： 電議

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詳細(xì)信息（鄭科探KT-Z1650PVD 科研小型磁探濺射儀）

材質(zhì)： 詳詢
規(guī)格： 臺(tái)
品牌： 鄭科探

產(chǎn)品參數(shù)

材質(zhì)：詳詢 規(guī)格：臺(tái) 品牌：鄭科探

產(chǎn)品特點(diǎn)

水冷型濺射儀，KT-Z1650PVD，是一種緊湊型全自動(dòng)濺射鍍膜機(jī)，使用非常簡(jiǎn)單。由于獨(dú)特的插件概念，該設(shè)備很容易配置濺射或蒸發(fā)，只需更換工藝頭。涂層前后可進(jìn)行等離子處理。模塊化設(shè)計(jì)使得避免金屬和碳沉積之間的交叉污染變得容易。高度調(diào)節(jié)和傾斜。它可以安裝一個(gè)可選的變速旋轉(zhuǎn)階段或旋轉(zhuǎn)行星階段，每個(gè)選擇持有不同的樣本和存根類型。在所有樣品階段，膜厚監(jiān)測(cè)都作為標(biāo)準(zhǔn)。. ?高性能濺射、碳涂層和等離子處理 ?獲得的碳線軸–50個(gè)碳涂層，無需用戶干預(yù) ?獨(dú)特的即插即用濺射和碳涂層模塊 ?真空性能和快速泵送時(shí)間磁控離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇，以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。磁控濺射的原理是，在電場(chǎng)內(nèi)在疊加一個(gè)磁場(chǎng)，這樣電子在疊加場(chǎng)內(nèi)做螺旋運(yùn)動(dòng)，行程很長(zhǎng)，每個(gè)電子電離的氣體分子比直流多很多很多，所以可以在低電壓下，有較好的真空度。濺射產(chǎn)生同樣的鍍膜效果。但是因?yàn)榇趴卣婵斩认鄬?duì)高，所以鍍膜的顆粒小，膜層附著力好，靶材的利用率也高。在直流濺射過程中，樣品的溫升主要來自于負(fù)離子在電場(chǎng)作用下對(duì)樣品的轟擊，在磁控濺射中，負(fù)離子都被磁場(chǎng)束縛了，所以基本沒有對(duì)樣品的轟擊，所以溫升基本沒有，很適合溫度敏感性的樣品制備。

產(chǎn)品實(shí)拍

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