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石墨靶材不僅用于制作液晶顯示器、平板顯示器、等離子顯示器、觸摸屏、電子紙、農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系發(fā)光二極管,還用于太陽(yáng)能電池和鍍膜、EMI的透明傳導(dǎo)鍍膜等,極其重要。每年我國(guó)ITO靶材消耗量超過(guò)1千噸,而這個(gè)領(lǐng)域的高等產(chǎn)品都需要從國(guó)外****。在此領(lǐng)域獲得諾貝爾獎(jiǎng)的科學(xué)家有:荷蘭科學(xué)家安德烈·海姆與英/俄科學(xué)家康斯坦丁·諾沃肖羅夫,在二維石墨烯材料可取代ITO靶材領(lǐng)域在2010年獲得諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)。制造液晶顯示器用到的ITO靶材也在日韓。國(guó)外可以做寬1200毫米、長(zhǎng)近3000毫米的單塊靶材,國(guó)內(nèi)只能制造不超過(guò)800毫米寬的。產(chǎn)出效率方面,日式裝備月產(chǎn)量可達(dá)30噸至50噸。 高純貨品靶材被譽(yù)為半導(dǎo)體芯片材料的強(qiáng)者,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)濺射靶材和濺射薄膜的品質(zhì)要求非常高,隨著更大尺寸的硅晶圓片制造出來(lái),相應(yīng)地要求濺射靶材也朝著大尺寸、高純度的方向發(fā)展,同時(shí)也對(duì)濺射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。高純貨品靶材在電子信息產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用廣泛,因貨品有良好的化學(xué)穩(wěn)定性,高電導(dǎo)率、熱導(dǎo)率,以及特有的電學(xué)、磁學(xué)、光學(xué)等性能,廣泛應(yīng)用于高性能薄膜材料的制備,各種高純貨品、新型合金和化合物功能的薄膜不斷得到開(kāi)發(fā)。高純金和高純銀因具有接觸電阻小,熱阻低,熱效應(yīng)力小和可靠性高等優(yōu)點(diǎn),其靶材材料廣泛應(yīng)用于背面金屬化系統(tǒng)、汽車(chē)工業(yè)、高溫材料和生物醫(yī)學(xué)中。此外,玫瑰金靶材、1N14靶材、2N18靶材等金銅合金靶材。在高等裝飾鍍膜中也有著廣泛的應(yīng)用,獲得光亮、美觀、;價(jià)廉的塑料,陶瓷表面金屬化制品。廣泛應(yīng)用于汽車(chē)、摩托車(chē)燈具、工藝美術(shù)、裝潢裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、化妝品、手機(jī)、鬧鐘、女式鞋后跟等領(lǐng)域。 UVTM生產(chǎn)的真空濺射靶材及光學(xué)鍍膜材料主要應(yīng)用于:半導(dǎo)體芯片、裝飾鍍膜工業(yè)、太陽(yáng)能光伏、數(shù)據(jù)儲(chǔ)存工業(yè)(光盤(pán))、平板液晶顯示(TFT-LCD)、光伏通訊工業(yè)、玻璃鍍膜(建筑玻璃和汽車(chē)玻璃)工業(yè)、抗腐蝕抗磨損(表面改性)等領(lǐng)域。公司生產(chǎn)的材料有各種高純度稀貨品,金屬合金,陶瓷和陶瓷制品組成。靶材可以制成各種形狀,大小和純度,以滿(mǎn)足設(shè)計(jì)規(guī)范,并提供靶材與背板的綁定服務(wù)(Bonding),真空陶瓷與金屬的焊接金屬化服務(wù)。UVTM具有經(jīng)驗(yàn)豐富的粉末冶金,真空熔煉,化合物半導(dǎo)體,稀土冶煉研發(fā)團(tuán)隊(duì)和經(jīng)驗(yàn)豐富的人員組成,并與科研院校及海外公司有著多年的技術(shù)和人才合作。生產(chǎn)設(shè)備主要有真空中頻感應(yīng)熔煉爐,冷坩堝懸浮熔煉爐。
注冊(cè)資金:1000萬(wàn)-5000萬(wàn)
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