價(jià)格: 電議
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氧化鈮靶是在平面顯示主要提供的靶材。近年來(lái),國(guó)內(nèi)的靶材制造商的設(shè)備和技術(shù)都得到較大的升級(jí),部分靶材供應(yīng)商接近國(guó)外進(jìn)口靶材的品質(zhì)。磁控濺射技術(shù)是目前重要的工業(yè)化大面積真空鍍膜技術(shù)。它相比其他濺射鍍膜,具有高速、低溫、低損傷等優(yōu)點(diǎn)。 市面上的氧化鈮靶材有平面氧化鈮靶和旋轉(zhuǎn)氧化鈮靶,其中旋轉(zhuǎn)氧化鈮靶因?yàn)槔寐矢撸瑩Q靶周期長(zhǎng)而受到追捧。 以下介紹磁控濺射靶材里面重要的一款:旋轉(zhuǎn)氧化鈮靶 Rotatable Nb2Ox target 1. 產(chǎn)品用途(Application) 用于制作Nb2O5膜,主要用于光學(xué)玻璃、觸摸屏之AR膜系,Low-E玻璃膜系。 2. 產(chǎn)品化學(xué)成分和物理性能(Physical and Chemical Properties ) 化學(xué)式( Chemical Coition) :Nb2Ox (x<5) 電阻率(Resistivity) (20°C):< 0.1 ohm. cm 成型工藝(Molding process):熱噴涂(HPS) 密度(Density ):>4.3g/cm3(>95%) 純度(Purity): > 99.95%
注冊(cè)資金:1000萬(wàn)-5000萬(wàn)
聯(lián)系人:楊永添
固話:020-22968888
移動(dòng)手機(jī):18026253787
企業(yè)地址:廣東 廣州市 花都區(qū)