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[碳化爐]
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化學氣相沉積(CVD)是一種通過前驅(qū)氣體熱分解生成反應(yīng)產(chǎn)物,并沉積在基底形成薄膜或基體致密化的工藝。遠航工業(yè)爐研發(fā)的下出料 CVD/碳化爐,針對碳/碳(C/C)復合材料、碳化硅(SiC)涂層等領(lǐng)域設(shè)計,是實現(xiàn)高性能材料致密化的核心關(guān)鍵設(shè)備。
圖:遠航工業(yè)爐-下出料CVD氣相沉積/碳化爐實操現(xiàn)場
| 加熱方式 | 等靜壓石墨電阻加熱(低壓大電流方式) |
| 設(shè)計/常用溫度 | 溫度 2100℃ / 長期常用 2000℃ |
| 溫控精度 | ±0.1℃(日本島電精密儀表控制) |
| 極限真空度 | ≤ 5Pa(冷態(tài)空爐狀態(tài)下) |
| 恒壓控制 | 100-7500Pa 范圍全自動微正壓恒定控制 |
| 控制系統(tǒng) | PLC + 15寸臺達觸摸屏(帶歷史數(shù)據(jù)導出) |
| 有效放料空間 | 根據(jù)客戶工藝需求提供非標尺寸定制 |
1. 多級氣路管理: 配備北京七星華創(chuàng)質(zhì)量流量計,控制前驅(qū)體及保護氣體流量。
2. 高安全性設(shè)計: 配備聲光報警系統(tǒng)、PLC邏輯互鎖及多重超溫保護。
3. 定制化物流: 配置下出料進出料車,大幅提升生產(chǎn)效率并降低工人勞動強度。
4. 精密真空控制: 采用電阻+電容薄膜真空規(guī)管,實現(xiàn)全量程高精度真空測量與反饋。
?? 遠航提示:CVD/CVI工藝復雜,反應(yīng)室設(shè)計與氣路配置需嚴謹。我們提供多種尺寸定制及技術(shù)擴展服務(wù),歡迎撥打 15115399105 咨詢。
注冊資金:100萬-500萬
聯(lián)系人:賀先生
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