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供應(yīng)1700℃氣相沉積爐

北京市氣相沉積爐廠家

價(jià)格： 電議

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詳細(xì)信息（供應(yīng)1700℃氣相沉積爐）

HKCVD-1700系統(tǒng)由高溫管式爐，高真空擴(kuò)散泵/分子泵系統(tǒng)，多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)，自動(dòng)壓強(qiáng)控制系統(tǒng)等組成?？蓪?shí)現(xiàn)本底真空達(dá)0.001—0.0001Pa混合氣體化學(xué)氣相沉積和擴(kuò)散試驗(yàn)。

主要功能和特點(diǎn)：

1、真空系統(tǒng)可根據(jù)使用要求選擇我部擴(kuò)散泵機(jī)組或分子泵機(jī)組；

2、在高溫試驗(yàn)過(guò)程中，可配合壓強(qiáng)控制儀控制氣體壓力實(shí)現(xiàn)負(fù)壓的精準(zhǔn)控制；

3、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計(jì)，流量顯示儀等組成，實(shí)現(xiàn)氣體的流量的精密測(cè)量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的安全可靠。

4、采用水冷KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；管路采用*Swagelok卡套連接，不漏氣；

5、超溫、過(guò)壓時(shí)，自動(dòng)切斷加熱電源及流量計(jì)進(jìn)氣，保證設(shè)備及實(shí)驗(yàn)的安全性。

主要用途和適用范圍：

高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD/CVI實(shí)驗(yàn)，特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長(zhǎng)等場(chǎng)所。

技術(shù)參數(shù)：

HKCVD-1700	本產(chǎn)品通過(guò)歐盟CE認(rèn)證
	控溫方式	采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能，并可編制50段升降溫程序。
	加熱元件	進(jìn)口1700型優(yōu)質(zhì)硅鉬棒
	工作電源	AC220V 50HZ/60HZ
	額定功率	≤6KW
	爐管尺寸	*Φ60/80/100/1000mm**
	工作溫度	≤1600℃
	溫度	1650℃
	恒溫精度	±1℃
	升溫速度	≤15℃/min
	測(cè)溫元件	B型熱電偶
	密封方式	不銹鋼水冷KF法蘭擠壓密封
		ZK-F	ZK-K
	真空范圍	0.1-0.001Pa	0.1-0.01Pa
	極限真空	*5.010^-5Pa**	*5.010^-4Pa**
	產(chǎn)品配置	雙級(jí)旋片真空泵+分子泵	雙級(jí)旋片真空泵+擴(kuò)散泵
	冷卻方式	風(fēng)冷	水冷
	抽速	110L/S	100L/S
	測(cè)量方式	復(fù)合真空計(jì)
	真空規(guī)管	電阻規(guī)+電離規(guī)
HKCVD-1700-I	測(cè)量范圍	*110^5～110^-1 Pa*
	穩(wěn)壓(真空)范圍	*110^3～110Pa*
	壓力(穩(wěn)定精度）	±3%
	控制范圍	*2.510^3～510^-1 Pa*
	控制精度	± 1%
HKCVD-1700-Ⅲ	控制方式	D07-7K質(zhì)量流量計(jì),D08流量顯示儀
	流量規(guī)格（可訂制）	0－500SCCM /0－1SLM,
	線性	±1%F.S.
	準(zhǔn)確度	±1%F.S.
	重復(fù)精度	±0.2%F.S.
	響應(yīng)時(shí)間	≤2sec
	耐壓	3MPa
	氣路通道	3通道（根據(jù)客戶需求）
	針閥	316不銹鋼
	管道	Φ6mm不銹鋼管
	接口	SwagelokΦ6mm