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在半導體制造中,許多芯片工藝步驟采用光刻技術,用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜(也稱作“掩模”),其作用是:在硅片上選定的區(qū)域中對一個不透明的圖形模板遮蓋,繼而下面的腐蝕或擴散將只影響選定的區(qū)域以外的區(qū)域。

用選定的圖像、圖形或物體,對處理的圖像(全部或局部)進行遮擋,來控制圖像處理的區(qū)域或處理過程。用于覆蓋的特定圖像或物體稱為掩?;蚰0?。光學圖像處理中,掩模可以是膠片、濾光片等。數字圖像處理中,玻璃板,掩模為二維矩陣數組,有時也用多值圖像。


掩膜版:通俗點理解,相當于過去用膠片沖洗照片時的底片。底片如果精度不夠,是洗不出來高精度照片的。光刻機施工前,要根據設計好的芯片電路圖制作掩膜板。掩膜板材質是石英玻璃,玻璃上有金屬鉻和感光膠。通過激光在金屬鉻上繪制電路圖。精度要求非常高。

  透鏡:用透鏡的光學原理,將掩膜版上的電路圖按比例縮小,再用光源映射的硅片上。光在多次投射中會產生光學誤差。要控制這個誤差。精度要求很高。

  就是測量臺移動的控制器,也是納米級精度,要求超高。


公司產品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務!

Reticle也稱為Mask,翻譯做光掩模板或者光罩,曝i光過程中的原始圖形的載體,通過曝i光過程,這些圖形的信息將被傳遞到芯片上。制造芯片時用.我們公司做的掩膜版,一般是根據客戶的要求做的,客戶提供圖紙我們加工



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