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公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務!
圖形漲縮 即進行size操作,比如gate處的注入層,從gate size放大而來。完整的光掩膜圖形中,除了對應電路的圖形外,還包括一些輔助圖形或測試圖形,常見的有:游標,光刻對準圖形,曝i光量控制圖形,測試鍵圖形,光學對準目標圖形,劃片槽圖形,和其他名稱,版別等LOGO。

掩膜除了應用于芯片制造外,還廣泛的應用與像LCD,PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種,鉻版(chrome)、干版,凸版、液體凸版。主要分兩個組成部分,基板和不透光材料。基板通常是高純度,低反射率,低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍在玻璃下方厚約0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小,雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。
在刻畫時,采用步進機刻畫(stepper),其中有電子束和激光之分,激光束直接在涂有鉻層的4-9“ 玻璃板上刻畫,邊緣起點5mm,與電子束相比,其弧形更逼真,掩膜版,線寬與間距更小。
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掩膜(MASK)是指單片機掩膜是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版,在單片機生產(chǎn)的過程中把程序做進去。優(yōu)點是:程序可靠、成本低。缺點:批量要求大,每次修改程序就需要重新做光刻板,不同程序不能同時生產(chǎn),供貨周期長。
