常州掩膜版-蘇州微麥光電有限公司

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

圖形漲縮 即進(jìn)行size操作，比如gate處的注入層，從gate size放大而來。完整的光掩膜圖形中，除了對(duì)應(yīng)電路的圖形外，還包括一些輔助圖形或測(cè)試圖形，常見的有：游標(biāo)，光刻對(duì)準(zhǔn)圖形，曝i光量控制圖形，測(cè)試鍵圖形，光學(xué)對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)圖形，劃片槽圖形，和其他名稱，版別等LOGO。

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光刻和刻蝕有什么區(qū)別？

這兩個(gè)詞是半導(dǎo)體工藝中的重要步驟，需要配合剖面圖講解，最i好自己找本半導(dǎo)體工藝的書看。

“光刻”是指在涂滿光刻膠的晶圓（或者叫硅片）上蓋上事先做好的光刻板，然后用紫外線隔著光刻板對(duì)晶圓進(jìn)行一定時(shí)間的照射。原理就是利用紫外線使部分光刻膠變質(zhì)，易于腐蝕。

“刻蝕”是光刻后，用腐蝕液將變質(zhì)的那部分光刻膠腐蝕掉（正膠），晶圓表面就顯出半導(dǎo)體器件及其連接的圖形。然后用另一種腐蝕液對(duì)晶圓腐蝕，形成半導(dǎo)體器件及其電路。

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什么是掩膜

首先我們從物理的角度來看看mask到底是什么過程。

在半導(dǎo)體制造中，許多芯片工藝步驟采用光刻技術(shù)，用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜（也稱作“掩?！保渥饔檬牵涸诠杵线x定的區(qū)域中對(duì)一個(gè)不透明的圖形模板遮蓋，繼而下面的腐蝕或擴(kuò)散將只影響選定的區(qū)域以外的區(qū)域。

圖像掩膜與其類似，用選定的圖像、圖形或物體，對(duì)處理的圖像（全部或局部）進(jìn)行遮擋，來控制圖像處理的區(qū)域或處理過程。

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