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氧化鋯(YSZ)晶體
產(chǎn)品規(guī)格:常規(guī)晶向:<100>,氧化鋯晶體單晶, <110>, <111>;晶向公差:±0.5°;常規(guī)尺寸:dia2'x0.5mm,氧化鋯晶體基片, 10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm;拋光情況:單拋或雙拋,氧化鋯晶體廠家,Ra<5A。注:可按客戶需求定制相應(yīng)的方向和尺寸。
晶體結(jié)構(gòu):立方;晶格常數(shù):a = 5.125 ?;密度:5.8 g / cm3;純度: 99.99%;熔點: 2800°c;熱膨脹系數(shù):10.3 x10-6/ °c;介電常數(shù):27;晶體生長方法:弧熔法。

氧化鋯(YSZ)單晶基片是早應(yīng)用于高溫超導(dǎo)薄膜的材料之一。一般使用的氧化鋯需要摻入釔作為穩(wěn)定劑,常見濃度有13 mol%,山西氧化鋯晶體,YSZ具有機(jī)械和化學(xué)穩(wěn)定性好、成本低的特點。
氧化鋯(YSZ)晶體產(chǎn)品規(guī)格:常規(guī)晶向:<100>, <110>, <111>;晶向公差:±0.5°;常規(guī)尺寸:dia2'x0.5mm, 10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm;拋光情況:單拋或雙拋,Ra<5A。注:可按客戶需求定制相應(yīng)的方向和尺寸。

從光學(xué)應(yīng)用的角度來講,單晶氧化鋯(YSZ)因其折射率高、色散大、物化性能穩(wěn)定,常被用作高溫光學(xué)元件,以及在光學(xué)設(shè)備中作為激光基質(zhì)晶體。氧化鋯(YSZ)單晶基片是早應(yīng)用于高溫超導(dǎo)薄膜的材料之一。常溫下保持立方相的氧化鋯晶體,具有硬度高(莫氏硬度8~8.5),折射率高(于6830?處,n≈2.149),色散性強(qiáng)(~0.056)和化學(xué)穩(wěn)定性好等特性。


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