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PLD 脈沖激光沉積鍍膜設(shè)備

[脈沖激光沉積鍍膜機(jī)

PLD

石英觀察窗]

北京市沉積鍍膜廠家

價格: 電議

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[脈沖激光沉積鍍膜機(jī) PLD 石英觀察窗]

PLD 脈沖激光沉積鍍膜設(shè)備
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詳細(xì)信息(PLD 脈沖激光沉積鍍膜設(shè)備)
  • 基本參數(shù)介紹: 化學(xué)氣象沉積鍍膜設(shè)備定制加工成熟產(chǎn)品管式

超高真空激光外延系統(tǒng)

一、 系統(tǒng)的主要組成及技術(shù)指標(biāo)

系統(tǒng)由真空腔室(外延室、進(jìn)樣室)、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、旋轉(zhuǎn)靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算機(jī)控制等各部分組成。

1、 ★★外延室:

極限真空優(yōu)于:5.0x10-8Pa

真空漏率小于2.0x10-8Pa.l/S

1.1、 真空室組件:1

       真空室采用球形結(jié)構(gòu),尺寸:Ф450mm;選用0Cr18Ni9Ti不銹鋼材料制

造,氬弧焊接,表面噴玻璃丸及電化學(xué)拋光處理,全部接口采用金屬墊圈密

封,腔體上各種法蘭接口如下:

1.1.1 CF250接口法蘭1個(接升華泵);

1.1.2 、CF200接口法蘭1個(接靶組件);

1.1.3 、CF150接口法蘭4個(接樣品臺組件、分子泵、離子泵、活開門

  組);

1.1.4 、CF100接口法蘭7個(接2個激光入射窗口、高能電子衍射電子

 、熒光屏  口、進(jìn)樣室口、2個光譜口);

1.1.5 、CF50接口法蘭5個(2個觀察窗口、1個紅外測溫窗口、2個備用);

1.1.6 CF35接口法蘭5個(接規(guī)管、放電電極、2個備用);

1.1.7 、CF16接口法蘭6個(低真空規(guī)管、放電電極、進(jìn)氣管路、充氣閥、 照明、備用;

1.2 旋轉(zhuǎn)靶臺組件:1

1.2.1、CF200密封法蘭,靶與樣品之間距離可調(diào)30~90mm(腔外調(diào)節(jié));

1.2.2、靶組件為垂直結(jié)構(gòu),靶材尺寸Φ70mm, 每次可以裝四塊靶材;提供可安裝直徑分別為Φ25mmΦ30mm、Φ50mm、Φ70mm靶材的靶材架各四套。

1.2.3、每塊靶材可實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn),磁力耦合傳動,轉(zhuǎn)速560轉(zhuǎn)/分,連續(xù)可調(diào),電機(jī)驅(qū)動;

1.2.4、公轉(zhuǎn)換靶采用波紋管轉(zhuǎn)軸驅(qū)動,由電機(jī)控制;

1.2.5、靶的定位與靶距調(diào)節(jié)均采用光電開關(guān)定位,靶組件的中心位置定在前方靶面與基片的距離為60mm的位置,為了保證靶定位精度,采用細(xì)分驅(qū)動器控制電機(jī);


1.3、 基片加熱臺組件:1

1.3.1、 基片尺寸:提供安裝1*1cm方形基片的基片架六套;Φ25和Φ51圓形基片的基片架各兩套。

1.3.2、★★采用材料作加熱器;基片加熱溫度 800°C±1°C,由熱電偶閉環(huán)反饋控制;基片溫度誤差小于±1°C;基片溫度從中心到邊沿的偏差小于±1°C。

1.3.3、 基片臺可以作前后手動移動,采用波紋管密封結(jié)構(gòu),基片以RHEED的位置為準(zhǔn)可拉出30mm,縮進(jìn)20mm;

1.3.4、 基片可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速560轉(zhuǎn)/分,電機(jī)驅(qū)動;

1.3.5 、樣品擋板組件;

1.4、窗口及法蘭盲板組件

1.4.1 、供準(zhǔn)分子激光入射用的石英玻璃窗口(選用JGS1-1型石英玻璃):6個

1.4.2 、觀察用玻璃窗CF50:2個

1.4.3 、紅外測溫窗CF50:1個

1.4.4 、CF35盲法蘭:1個

1.4.5 、CF50盲法蘭:2個

1.5、 活開門組件:1套

1.5.1、 上焊接Ф50mm 通導(dǎo)窗口;

1.5.2、 采用膠圈,金屬兩用密封結(jié)構(gòu);

1.6、 工作氣路組件:3條

1.6.1、質(zhì)量流量控制器、DG16角閥、管路、接頭等:2路

       質(zhì)量流量計范圍:1--100SCCM(廠家:北京匯博隆)。

1.6.2、CF16角閥、管路、接頭 :1路

1.7、工作真空獲得:機(jī)械泵+分子泵+離子泵+升華泵

1.7.1、抽速:8升/秒,2XZ-8直連機(jī)械泵:1臺

1.7.2、抽速:620升/秒,分子泵及控制電源:1臺

1.7.3、抽速:400升/秒,濺射離子泵及控制電源:1臺

1.7.4、鈦鉬絲升華泵及控制電源:1臺

1.7.5、CC-150-B閘板閥:2臺

分別用于分子泵與外延室隔離,離子泵與真空室隔離。

1.7.6、CC-100-B閘板閥:1臺

進(jìn)樣室與外延室隔離。

1.7.7、分子泵與機(jī)械泵軟聯(lián)接金屬軟管:1

1.7.8、電磁隔斷放氣閥:DN40:1臺

1.8、★★真空測量

1.8.1、DL-7型超高真空測量規(guī)、計:1套

       測量范圍:1.0x10-2Pa~1.0x10-8Pa;

1.8.2、ZDF復(fù)合真空計測量低真空:1套

     測量范圍:1.0x105Pa~1.0x10-1Pa;


2、進(jìn)樣室:

極限真空優(yōu)于:1.0x10-5Pa;

真空漏率小于5.0x10-8Pa.l/S;

2.1、 真空室組件:1

真空室腔體尺寸Ф150x150mm,上面開有連接樣品傳輸桿、真空泵、活開

門、真空規(guī)、放氣閥等各種規(guī)格的法蘭接口,選用0Cr18Ni9Ti不銹鋼材料制

造,氬弧焊接,表面噴玻璃丸及電化學(xué)拋光處理。

2.2、★★真空部件

2.2.1、 磁力樣品傳送桿,傳送距離700mm:1套

2.2.1、 壓力表,放在進(jìn)氣閥門外:1套

2.2.1、 觀察窗組件:1套

2.3、★★工作真空獲得:機(jī)械泵+分子泵

2.3.1、直聯(lián)機(jī)械泵:1臺(抽速4升/秒);

2.3.2、復(fù)合分子泵及變頻控制電源:1臺(抽速600升/秒);

2.3.3、分子泵與機(jī)械泵軟聯(lián)接金屬軟管:1 ;

2.3.4、CF150-B閘板閥:1臺(用于分子泵與樣品引進(jìn)室隔離);

2.3.5、ZDF量程高真空測量規(guī)、計:1套(用外延室真空計的另外兩路)

         低真空規(guī):1套(1.0x105Pa~1.0x10-1Pa);


         電離規(guī):1套(1.0x10-1Pa~1.0x10-5Pa); 

2.3.6、高真空角閥CF16、管路、接頭、充氣閥D6等:1路(解除真空充氮?dú)猓?

2.3.7、KF25電磁壓差閥:1臺;

2.3.8、KF40電磁截止閥:1臺;


2.4、相關(guān)規(guī)格的金屬密封銅圈,氟橡膠密封圈:全套

2.5、不銹鋼緊固螺栓、螺母、墊片等: 全套

 

3、 安裝機(jī)臺架組件:1

安裝臺架:整個設(shè)備安放在一個用型鋼焊接而成的臺架上,臺面板由不銹鋼蒙皮裝飾,臺架及圍板均進(jìn)行噴塑處理。機(jī)臺有移動/固定腳輪兩用。

4、 電源控制系統(tǒng) 1套

自制電源

4.1、總控制電源:1套

4.2、電源控制機(jī)柜:2臺   

4.3、樣品加熱電源:1臺

4.4、鹵鎢燈照明電源 1臺

4.5、步進(jìn)電機(jī)旋轉(zhuǎn)電源:4套

4.6、升華泵電源:1套

4.7、機(jī)械泵啟動控制電源:2套

外配套電源

4.8、3L-400離子泵電源:1套

4.9、FB620分子泵電源:2套

4.10、電離真空計電源:2套

4.11、質(zhì)量流量計電源(2顯):1套

5、備品備件:1套

5.1、無氧銅密封墊圈(相關(guān)規(guī)格)

CF16:5個;    CF35:5個;   

CF50:5個;    CF100:3個; CF150:5個

Ф6mm:卡套:4套Ф6mm:不銹鋼管:6米

5.2、氟橡膠密封圈

Ф150     3個    Ф100     3個

5.3、烘烤帶:      4條

5.4、點(diǎn)鎢燈:      5個

5.5、加熱絲:      3米

6、配套儀器及控制系統(tǒng)

1)、★★差分式高能電子衍射儀(RHEED):                1套

1)、高能電源:能量25KV,束流100μA。

2)、三極濺射離子泵(抽速:25升/秒)及閥門、管道:1套

3)、熒光屏:1快

4)、熒光屏擋板:1套

5)、照像用黑筒:1套

2)、★★RHEED強(qiáng)度振蕩,生長速率監(jiān)測系統(tǒng)              1

      主要由攝象頭,硬件,計算機(jī)控制軟件包等組成。

3)、★★激光束掃描裝置                             1                                                

1)、二維掃描機(jī)械平臺。

2)、手動/自動,兩套步進(jìn)電機(jī)控制,執(zhí)行兩自由度掃描。

4)、★★氧等離子體發(fā)生器及電源                      1

5)、計算機(jī)控制系統(tǒng) :                              1套

1)、由硬件卡,計算機(jī)控制軟件包,及計算機(jī)組成。

2)、控制的內(nèi)容主要有公轉(zhuǎn)換靶、靶自轉(zhuǎn)、樣品自轉(zhuǎn)、樣品控溫、激光束掃描等。

6)、★★四極質(zhì)譜儀(質(zhì)量數(shù):1---100):               1  

標(biāo)簽: 脈沖激光 PLD 石英觀察   脈沖激光沉積鍍膜機(jī) PLD 石英觀察窗   北京市沉積鍍膜   北京市沉積鍍膜廠家
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