高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)類目 > 商鋪首頁 > 產(chǎn)品展示 > 北京市磁控濺射鍍膜機(jī)廠家_維意真空MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)支持定制
維意真空MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)支持定制 維意真空MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)支持定制 維意真空MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)支持定制 維意真空MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)支持定制

維意真空MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)支持定制

[磁控濺射

高真空磁控濺射鍍膜儀

磁控鍍膜

離子鍍膜]

北京市磁控濺射鍍膜機(jī)廠家

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詳細(xì)信息(維意真空MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)支持定制)
  • 品牌: WAYES-VAC
  • 型號: MS-450
  • 加工定制:
  • 規(guī)格: 4英寸
  • 適用范圍: 真空鍍膜
  • 基本參數(shù)介紹: 超高真空磁控濺射鍍膜機(jī)支持定制加工

維意真空MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)支持定制

MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)


真空腔室:直徑450?H400mm,1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì),氬弧焊接,前開門結(jié)構(gòu);


真空系統(tǒng):機(jī)械泵+分子泵(進(jìn)口和國產(chǎn)可選);


極限真空:優(yōu)于5?10-5Pa(經(jīng)烘烤除氣后);


真空抽速:大氣~8?10-4Pa≤30min;


升降基片臺:2~6英寸基片臺,靶基距60~120mm連續(xù)在線自動可調(diào),旋轉(zhuǎn)0~20r/min可調(diào),可加熱至500℃(可選水冷功能),可選配偏壓清洗功能;


磁控靶:直徑3英寸2~4只(可升級成直徑4英寸靶2~3只),兼容直流和射頻,可以濺射磁性材料的靶材;


濺射電源:直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選;


質(zhì)量流量計:2~3路工藝氣體,可根據(jù)工藝要求增加;


膜厚監(jiān)控儀:可選配國產(chǎn)或進(jìn)口單水冷探頭膜厚儀;


控制方式:PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),具備漏氣自檢與提示、通訊故障,實現(xiàn)一鍵抽停真空。

4.設(shè)備主要優(yōu)勢

4.1  實用性:

4.1.1  設(shè)備集成度高,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,可以放置于實驗桌面上即可;

4.1.2通過更換設(shè)備上下法蘭可以實現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換,實現(xiàn)一機(jī)多用;

4.2  方便性:

4.2.1  設(shè)備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式,接線及安裝調(diào)試簡單,既保證了設(shè)備使用方便又保證了設(shè)備的整潔性;

4.2.2  設(shè)備可將主機(jī)置于手套箱內(nèi),水、電、氣等通過4個KF40接口接到手套箱外,與手套箱的對接靈活方便;

4.2.3  設(shè)備工作電壓為220V,整機(jī)功率小于2KW,對實驗室的供電要求低;

4.3  穩(wěn)定性:

4.3.1設(shè)備主要零部件采用進(jìn)口或品牌,保證了設(shè)備的質(zhì)量及穩(wěn)定性;

4.4  性:

4.4.1  獨立開發(fā)的PLC+觸摸屏智能操作系統(tǒng),具有智能控制模式和調(diào)試維修模式;

4.4.2  控制系統(tǒng)具備漏氣自檢與提示功能,當(dāng)設(shè)備漏氣時,系統(tǒng)會自動提示設(shè)備漏氣,以便用戶進(jìn)行檢漏,保證設(shè)備正常穩(wěn)定運行;

4.4.3  控制系統(tǒng)具備保養(yǎng)維護(hù)提示功能,當(dāng)設(shè)備運行達(dá)到一定時長,系統(tǒng)會自動提示設(shè)備需要維護(hù)保養(yǎng),以便用戶及時進(jìn)行維護(hù),保證設(shè)備正常穩(wěn)定運行;

4.4.4  控制系統(tǒng)具備通訊故障自檢功能,系統(tǒng)對分子泵、濺射電源、真空規(guī)、電機(jī)、流量計等部件的通訊進(jìn)行自檢,如果某個部件出現(xiàn)故障,可以按照系統(tǒng)中的各部件故障查詢辦法進(jìn)行查詢,及時確認(rèn)故障原因,保證設(shè)備安全;

4.4.5  控制系統(tǒng)具備數(shù)據(jù)記錄與導(dǎo)出功能,控制系統(tǒng)記錄設(shè)備的操作記錄及鍍膜過程數(shù)據(jù),可以在系統(tǒng)中查看這些數(shù)據(jù),也可以用U盤導(dǎo)出這些數(shù)據(jù);

4.4.6  該系統(tǒng)具備三個等級級密碼保護(hù)功能,不同等級不同使用權(quán)限,確保設(shè)備的安全性和數(shù)據(jù)的保密性;

5.設(shè)備安裝條件(用戶自備)

5.1 供電要求

5.1.1  設(shè)備供電總功率≤2KW,220V,單相三線制(一火一零一地);

5.1.2  插座距離設(shè)備尺寸≤2m;

5.1.3  其它:如用戶選配冷卻循環(huán)水機(jī)或其它選購件,用戶自行準(zhǔn)備增配件的供電要求,不在安裝條件范圍內(nèi);

5.2供水要求

5.2.1  設(shè)備需水冷的部件有磁控靶、膜厚儀探頭(如選配膜厚控制系統(tǒng));

5.2.2  水壓0.2~0.4MPa,水溫10~25℃;

5.3安裝場地大小要求

      設(shè)備尺寸為:長×寬: L60cm×W60cm,建議安裝場地尺寸≥L60cm×W80cm。

5.4 其他要求

5.4.1  環(huán)境溫度:5~40℃;

5.4.2  環(huán)境濕度:<85%R.H;

5.4.3  室內(nèi)無大量塵埃,無腐蝕性、易燃易爆氣體;

6.設(shè)備服務(wù)承諾

    尊敬的客戶:

首先感謝您對我們公司產(chǎn)品的信任!

我公司本著“以最合理的價格、最完善的服務(wù)、提供質(zhì)的產(chǎn)品”的宗旨向您鄭重承諾:

6.1 售后服務(wù)承諾

   6.1.1  產(chǎn)品質(zhì)保期為一年;

   6.1.2 在質(zhì)保期內(nèi)供方將免費維修和更換因設(shè)備質(zhì)量原因造成的零部件損壞;

   6.1.3  在質(zhì)保期外設(shè)備零部件的損壞,提供的配件只收成本費;

   6.1.4  質(zhì)保期內(nèi)或質(zhì)保期外如設(shè)備出現(xiàn)故障,供方接到用戶的正式通知(含電話或郵件通知)后,我公司技術(shù)人員于48小時內(nèi),趕到技術(shù)服務(wù)現(xiàn)場并開始維修。

6.2驗收

   6.2.1 我公司負(fù)責(zé)將設(shè)備初驗收合格后,包裝好免費運送至客戶所在地,經(jīng)檢驗后拆封,供方開始安裝調(diào)試,運輸費用及安裝調(diào)試費用我司負(fù)責(zé);

   6.2.2 我公司根據(jù)客戶要求,負(fù)責(zé)組織專業(yè)人員對設(shè)備進(jìn)行安裝調(diào)試,客戶需提供基本的安裝條件和專人配合,以確裝調(diào)試的順利進(jìn)行;

   6.2.3 設(shè)備安裝調(diào)試到位后,雙方組織驗收,并對驗收單進(jìn)行驗收簽字;

   6.2.4 我公司向客戶提供的設(shè)備資料包括:設(shè)備說明書、驗收單、裝箱單、產(chǎn)品合格證、備品備件清單;

   6.2.5 我公司在客戶安裝現(xiàn)場進(jìn)行的設(shè)備驗收發(fā)生的一切費用由我司承擔(dān);

6.3培訓(xùn)

  6.3.1  我公司派技術(shù)工程師對客戶人員在設(shè)備安裝調(diào)試時進(jìn)行技術(shù)培訓(xùn)。使需方人員能掌握有關(guān)設(shè)備的使用、維護(hù),達(dá)到能獨立進(jìn)行操作、維護(hù)等的目的。

  6.3.2  培訓(xùn)地點為客戶設(shè)備使用現(xiàn)場,培訓(xùn)人數(shù)不少于2人,培訓(xùn)時間根據(jù)實際情況而定,培訓(xùn)費用由我司承擔(dān)。


標(biāo)簽: 磁控濺射 高真空磁 磁控鍍膜 離子鍍膜   磁控濺射 高真空磁控濺射鍍膜儀 磁控鍍膜 離子鍍膜   北京市磁控濺射鍍膜機(jī)   北京市磁控濺射鍍膜機(jī)廠家
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注冊資金:100萬-500萬

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