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[光刻 Ralth 納米級(jí)曝光 專業(yè) 電子束光刻]
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(三). 專業(yè)型電子束光刻設(shè)備Raith150 Two:
Raith150 Two是一款高分辨電子束光刻設(shè)備,采用30kV Gemini電子束技術(shù),應(yīng)用于8英寸以下基板(可曝光面積6英寸)的納米級(jí)光刻、高分辨成像及低壓電子束光刻,可實(shí)現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu)。


HSQ膠上制作亞4.5nm線條及PMMA膠上制作精細(xì)的11nm線條
(四). 專業(yè)型電子束光刻設(shè)備Voyager:
Voyager是一款高性價(jià)比采用創(chuàng)新的eWrite體系結(jié)構(gòu)的電子束光刻設(shè)備,采用50kV eWrite 電子束技術(shù),應(yīng)用于8英寸以下基板(可曝光面積6英寸)的高速直寫(xiě),適合衍射光學(xué)元件、防偽元件的加工及化合物半導(dǎo)體器件的高速加工。

HSQ膠上制作亞7nm線條
(五). 專業(yè)型電子束光刻設(shè)備EBPG5150/5200:
EBPG5150/5200是一款高自動(dòng)化的電子束光刻設(shè)備,采用100kV EBPG 電子束技術(shù),應(yīng)用于8英寸以下基板(5150可曝光面積6英寸、5200可曝光面積8英寸)的高深寬比納米結(jié)構(gòu)曝光、高速電子束直寫(xiě),適合防偽標(biāo)識(shí)的加工及化合物半導(dǎo)體器件的高速加工。



制作GaAs T型器件及在化合物半導(dǎo)體上的應(yīng)用
(六). 納米加工和納米光刻升級(jí)配件Elphy:
Elphy系列光刻升級(jí)配件可以將現(xiàn)有的SEM、SEM-FIB、HIM等聚焦離子束電子束系統(tǒng)升級(jí)為納米光刻和納米加工設(shè)備。
Elphy系統(tǒng)
注冊(cè)資金:尚未完善
聯(lián)系人:紹兵
固話:
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