價格: 電議
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[光刻 Ralth 納米級曝光]
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(五). 專業(yè)型電子束光刻設備EBPG5150/5200:
EBPG5150/5200是一款高自動化的電子束光刻設備,采用100kV EBPG 電子束技術,應用于8英寸以下基板(5150可曝光面積6英寸、5200可曝光面積8英寸)的高深寬比納米結構曝光、高速電子束直寫,適合防偽標識的加工及化合物半導體器件的高速加工。



制作GaAs T型器件及在化合物半導體上的應用
(六). 納米加工和納米光刻升級配件Elphy:
Elphy系列光刻升級配件可以將現(xiàn)有的SEM、SEM-FIB、HIM等聚焦離子束電子束系統(tǒng)升級為納米光刻和納米加工設備。
Elphy系統(tǒng)
注冊資金:尚未完善
聯(lián)系人:紹兵
固話:
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