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專業(yè)型電子束光刻設備 專業(yè)型電子束-光刻設備

[光刻

Ralth

納米級曝光]

北京市型電子束光刻廠家

價格: 電議

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[光刻 Ralth 納米級曝光]

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詳細信息(專業(yè)型電子束光刻設備 專業(yè)型電子束-光刻設備)
  • 品牌: RAITH
  • 型號: EBPG5150/5200:
  • 加工定制:
  • 用途: 在化合物半導體等領域加工線寬8-350納米圖形或掩膜板加工。


(). 專業(yè)型電子束光刻設備EBPG5150/5200:  

    EBPG5150/5200是一款高自動化的電子束光刻設備,采用100kV EBPG 電子束技術,應用于8英寸以下基板(5150可曝光面積6英寸、5200可曝光面積8英寸)的高深寬比納米結構曝光、高速電子束直寫,適合防偽標識的加工及化合物半導體器件的高速加工。

 

制作GaAs T型器件及在化合物半導體上的應用

(). 納米加工和納米光刻升級配件Elphy:  

    Elphy系列光刻升級配件可以將現(xiàn)有的SEMSEM-FIB、HIM等聚焦離子束電子束系統(tǒng)升級為納米光刻和納米加工設備。

 

Elphy系統(tǒng)

標簽: 先進光刻 Ralt 納米級曝   先進光刻 Ralth 納米級曝光   北京市型電子束光刻   北京市型電子束光刻廠家
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聯(lián)系人:紹兵

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