SEMILAB-全光譜橢偏儀GES5E (Spectroscopic Ellipsometer)

SEMILAB-全光譜橢偏儀GES5E (Spectroscopic Ellipsometer) SEMILAB成立于19，總部位于匈牙利布達(dá)佩斯，為生產(chǎn)、研發(fā)中心，客戶遍布。在歐洲、和亞洲主要國家都設(shè)有分支機(jī)構(gòu), 在美國設(shè)有工廠和研發(fā)中心。SEMILAB擁有*的電學(xué)和光學(xué)表征技術(shù)，產(chǎn)品被廣泛應(yīng)用于光伏、半導(dǎo)體、科研以及平板測試領(lǐng)域。憑借的測試設(shè)備，為客戶的生產(chǎn)和質(zhì)量監(jiān)控提供一套完整的測試方案，在行業(yè)中始終處于領(lǐng)xian地位。 公司建成后迅速發(fā)展, 自2004年以來相繼了包括SemiTest、SSM、Sopra、QC Solution、AMS、SDI和Todival Solar在內(nèi)的業(yè)內(nèi)測試公司，同時囊獲了IBM的JPV、AMAT的Boxes Cross、以及德國Basler公司的zhuan li技術(shù)。 隨著市場的不斷擴(kuò)張，SEMILAB于2000年進(jìn)入中國市場，6年后成立代表處，并于2009年在上海成立全資子公司“瑟米萊伯貿(mào)易（上海）有限公司”。子公司成立以來，業(yè)務(wù)量發(fā)展迅猛，于2010年成立了TSS寄售維修中心，并于次年在無錫新增了售后服務(wù)中心，上海公司隨之成為亞洲的銷售及售后服務(wù)中心。公司秉承專ye、團(tuán)隊、激情的文化理念，始終堅持為客戶提供的測試方案和完善的售后服務(wù)。 產(chǎn)品描述 GES5E全光譜橢偏儀基于橢圓偏振測試技術(shù)，采用的旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器，結(jié)合光纖專li技術(shù)將偏振光信號傳輸至分段光譜優(yōu)化的高分辨率單色儀或陣列式多通道攝譜儀，測得線偏振光經(jīng)過樣品反射后的偏振態(tài)變化情況，并通過樣品光學(xué)模型的建立，計算出單層或多層薄膜結(jié)構(gòu)的厚度、折射率和消光系數(shù)，實(shí)現(xiàn)、快速、穩(wěn)定的寬光譜橢偏測試。 GES5E是Semilab針對科研院所和企業(yè)研發(fā)中心推出的多功能桌面 型旗艦產(chǎn)品。為了滿足科研院所及研發(fā)中心對于復(fù)雜薄膜材料和復(fù)雜多層薄膜結(jié)構(gòu)的綜合型測試需求，GES5E采用了模塊化的設(shè)計，可自由組合多種掃描和真空變溫樣品臺，多種從135nm深紫外光譜至2400nm近紅外光譜的探測器，多種測試光斑尺寸，并可拓展FTIR紅外光譜測試模組、EPA薄膜孔隙率測試模組、渦電流法非接觸方塊電阻測試模組、Mueller Matrix各項(xiàng)異性材料測試模組、Raman結(jié)晶率測試模組、反射干涉測試模組、透射率和反射率測試模組等多種功能，為方便用戶合理配置，Semilab支持絕大部分模組的后續(xù)升級服務(wù)。 產(chǎn)品特點(diǎn) 業(yè)界第yi家光譜型橢偏儀測試設(shè)備廠商 業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)測試機(jī)構(gòu)定標(biāo)設(shè)備，參與發(fā)布中華人民共和國橢圓偏振測試技術(shù)標(biāo)準(zhǔn) 非接觸、無損測試所測樣品無損傷的測量 業(yè)界最寬測試光譜范圍，選配135nm-25um，并可自動切換快速探測模式和高精度探測模式 測試功能延展性強(qiáng)，并支持后續(xù)升級服務(wù) 定期免費(fèi)升級SOPRA材料數(shù)據(jù)庫 開放光學(xué)模型擬合分析過程，方便用戶優(yōu)化測試菜單 主要應(yīng)用 光伏行業(yè)：晶硅電池減反膜、薄膜電池透明導(dǎo)電膜、非晶硅微晶硅薄膜電池、CIGS薄膜電池、CdTe薄膜電池、有機(jī)電池、染劑敏感太陽能電池 半導(dǎo)體行業(yè)：High-K、Low-K、金屬、光刻工藝、半導(dǎo)體鍍膜工藝、外延工藝 平板顯示行業(yè)：TFT、OLED、LTPS、IGZO、彩色濾光片 光電行業(yè)：光波導(dǎo)、減反膜、III-V族器件、MEMS、溶膠凝膠 主要技術(shù)指標(biāo) 測試速度：＜1 sec （快速測試模式） ?????????????? ＜120 sec （高分辨率測試模式） 測量光譜分辨率：＜0.5nm@633nm （高分辨率測試模式） ??????????????????????? ＜0.8nm@633nm （快速測試模式） 樣品尺寸： 300mm 厚度測量范圍：0.01nm-50um 厚度測試精度：0.02nm @120nm SiO2 on Si 折射率測試精度：0.002 @120nm SiO2 on Si SEMILAB-SE2000 全光譜橢偏測試平臺 (Spectroscopic Ellipsometer Metrology Station) 產(chǎn)品描述 SE2000全光譜橢偏測試平臺基于橢圓偏振測試技術(shù)，采用的旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器，結(jié)合光纖專li技術(shù)將偏振光信號傳輸至分段光譜優(yōu)化的高分辨率單色儀或陣列式多通道攝譜儀，測得線偏振光經(jīng)過樣品反射后的偏振態(tài)變化情況，并通過樣品光學(xué)模型的建立，計算出單層或多層薄膜結(jié)構(gòu)的厚度、折射率和消光系數(shù)，實(shí)現(xiàn)、快速、穩(wěn)定的寬光譜橢偏測試。 SE2000全光譜橢偏測試平臺是Semilab針對產(chǎn)線和實(shí)驗(yàn)線推出的多功能高速測試平臺。模塊化的設(shè)計，可選配300mm樣品臺或350*450mm平板樣品臺，Robot上片系統(tǒng)，圖形識別系統(tǒng)和數(shù)據(jù)通信系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)高速在線監(jiān)控。在測試功能方面，可自由組合多種從190nm深紫外光譜至2400nm近紅外光譜的探測器，并可拓展FTIR紅外光譜測試模組、渦電流法非接觸式或4PP接觸式方塊電阻測試模組、Mueller Matrix各項(xiàng)異性材料測試模組、Raman結(jié)晶率測試模組、電子遷移率表征模組、LBIC光誘導(dǎo)電流測試模組、反射干涉測試模組等多種功能，使SE2000成為光學(xué)和電學(xué)特性表征綜合測試系統(tǒng)。 產(chǎn)品特點(diǎn) 業(yè)界第yi家光譜型橢偏儀測試設(shè)備廠商 業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)測試機(jī)構(gòu)定標(biāo)設(shè)備，參與發(fā)布中華人民共和國橢圓偏振測試技術(shù)標(biāo)準(zhǔn) 業(yè)界最寬測試光譜范圍，選配190nm-25um，并可自動切換快速探測模式和高精度探測模式 配置實(shí)時對焦傳感器，實(shí)現(xiàn)高速測量 選配Robot上片系統(tǒng)，圖形識別系統(tǒng)和數(shù)據(jù)通信系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)在線監(jiān)控 獨(dú)特的樣品臺結(jié)構(gòu)設(shè)計，優(yōu)化固定大尺寸的柔性材料 模塊化設(shè)計，可綜合監(jiān)控樣品光學(xué)和電學(xué)特性 定期免費(fèi)升級SOPRA材料數(shù)據(jù)庫 開放光學(xué)模型擬合分析過程，方便用戶優(yōu)化測試菜單 主要應(yīng)用 光伏行業(yè)：薄膜電池透明導(dǎo)電膜、非晶硅微晶硅薄膜電池、CIGS薄膜電池、CdTe薄膜電池、有機(jī)電池、染劑敏感太陽能電池 半導(dǎo)體行業(yè)：High-K、Low-K、金屬、光刻工藝、半導(dǎo)體鍍膜工藝、外延工藝 平板顯示行業(yè)：TFT、OLED、LTPS、IGZO、彩色濾光片 光電行業(yè)：光波導(dǎo)、減反膜、III-V族器件、MEMS、溶膠凝膠 主要技術(shù)指標(biāo) 測試速度：＜1 sec （快速測試模式） ?????????????? ＜120 sec （高分辨率測試模式） 測量光譜分辨率：＜0.5nm@633nm （高分辨率測試模式） ??????????????????????? ＜0.8nm@633nm （快速測試模式） 樣品尺寸： 300mm 厚度測量范圍：0.01nm-50um 厚度測試精度：0.02nm @120nm SiO2 on Si 折射率測試精度：0.002 @120nm SiO2 on Si 技術(shù) 應(yīng)用 SE1000 全光譜橢偏儀 (TABLE TOP SPECTROSCOPIC ELLIPSOMETER) 產(chǎn)品描述 SE-1000型橢偏儀采用手動變角裝置來設(shè)定測試的入射角，樣品臺也采用手動方式，在測試的準(zhǔn)確性和靈活性與SE-2000保持一致的情況下，為客戶提供了一款競爭力的橢偏測試設(shè)備。另一方面，SE-1000型全光譜橢偏儀采用了設(shè)計的光學(xué)部件以及版本的測試分析軟件（SAM/SEA），極大地提高了設(shè)備的運(yùn)行穩(wěn)定性和數(shù)據(jù)處理能力 ?? 與SE-2000平臺一樣，SE-1000全光譜橢偏儀同時也是一個多功能測試平臺，采用模塊化的設(shè)計，可集成FTIR紅外光譜測試模組、渦電流法非接觸式或4PP接觸式方塊電阻測試模組、Mueller Matrix各項(xiàng)異性材料測試模組、Raman結(jié)晶率測試模組、電子遷移率表征模組、LBIC光誘導(dǎo)電流測試模組、反射干涉測試模組等多種功能，用戶可根據(jù)測試需求合理選擇搭配功能 產(chǎn)品特點(diǎn) 業(yè)界第yi家光譜型橢偏儀測試設(shè)備廠商 業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)測試機(jī)構(gòu)定標(biāo)設(shè)備，參與發(fā)布中華人民共和國橢圓偏振測試技術(shù)標(biāo)準(zhǔn) 針對研發(fā)及實(shí)驗(yàn)室測試設(shè)計，能降低測試成本 模塊化設(shè)計，可綜合監(jiān)控樣品光學(xué)和電學(xué)特性 定期免費(fèi)升級SOPRA材料數(shù)據(jù)庫 開放光學(xué)模型擬合分析過程，方便用戶優(yōu)化測試菜單 主要應(yīng)用 業(yè)界第yi家光譜型橢偏儀測試設(shè)備廠商 業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)測試機(jī)構(gòu)定標(biāo)設(shè)備，參與發(fā)布中華人民共和國橢圓偏振測試技術(shù)標(biāo)準(zhǔn) 針對研發(fā)及實(shí)驗(yàn)室測試設(shè)計，能降低測試成本 模塊化設(shè)計，可綜合監(jiān)控樣品光學(xué)和電學(xué)特性 定期免費(fèi)升級SOPRA材料數(shù)據(jù)庫 開放光學(xué)模型擬合分析過程，方便用戶優(yōu)化測試菜單 主要技術(shù)指標(biāo) 手動變角范圍：45°-75°（最小步進(jìn)5°） 光譜范圍：245-990nm 樣品尺寸： 200mm 厚度測量范圍：0.01nm-50um（取決于樣品類型）