Hakuto 離子蝕刻機 IBE

產(chǎn)品描述 上海伯東日本離子蝕刻機 IBE 包含小型離子蝕刻用于研究分析和大型離子蝕刻系統(tǒng)用于生產(chǎn)制造. 離子蝕刻系統(tǒng)對磁性材料, 黃金, 鉑和合金金屬提供**蝕刻技術(shù). 它很容易做各種材料的蝕刻. 上海伯東是日本伯東離子蝕刻機中國總代理 Hakuto 離子蝕刻機 IBE 技術(shù)參數(shù)： Hakuto 離子蝕刻機 IBE 技術(shù)規(guī)格: portant;"> 型號 portant;"> 7.5IBE portant;"> 10IBE portant;"> 20IBE-C portant;"> 20IBE-J portant;"> 適用范圍 portant;"> 適用于科研院所,實驗室研究 portant;"> 適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實驗室研究 portant;"> 適合中等規(guī)模量產(chǎn)使用的離子刻蝕機 portant;"> 適合大規(guī)模量產(chǎn)使用的離子刻蝕機 portant;"> 基片尺寸 portant;"> Φ4 X 1片或 Φ6 X 1片 portant;"> Φ8 X 1片 portant;"> Φ3 inch X 8片 Φ4 inch X 6片 Φ8 inch X 1片 portant;"> Φ4 inch X 12片 Φ5 inch X 10片 Φ6 inch X 8片 portant;"> 離子源 portant;"> 8cm 或 10cm 考夫曼離子源 portant;"> 10cm 考夫曼離子源 portant;"> 20cm 考夫曼離子源 portant;"> 20cm 考夫曼離子源 Hakuto 離子蝕刻機 IBE 應(yīng)用領(lǐng)域： Hakuto 離子蝕刻系統(tǒng) IBE 主要應(yīng)用： 1.薄膜磁頭 Thin film Magnetic Head 2.自旋電子學(xué) Spi***onics 3.MR Sencer 4.微電子機械系統(tǒng) MEMS Micro-electromechanical Systems 5.射頻設(shè)備 RF Devices 6.光學(xué)組件 Optical Component 7.超導(dǎo)電性 Super Conductivity