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[小型濺射儀]
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KT—Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓,電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn),樣品高度可調(diào)節(jié)及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。 技術(shù)參數(shù) 控制方式 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 濺射電源 直流濺射電源 鍍膜功能 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 功率 ≤1000W 輸出電壓電流 電壓≤1000V 電流≤1A 真空 機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa 濺射真空 ≤30Pa 擋板類型 電控 真空腔室 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm 樣品臺 可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底) 樣品臺轉(zhuǎn)速 8轉(zhuǎn)/分鐘 樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 40-105mm 真空測量 皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa) 預(yù)留真空接口 KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口