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無掩膜光刻機

無掩膜光刻機

上海市無掩膜光刻機廠家

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詳細信息(無掩膜光刻機)
無掩膜光刻機 型號:DS-2000/14
1.技術特征
采用DMD作為數(shù)字掩模,像素1024 × 768
采用14倍縮小投影光刻物鏡成像,一次曝光面積約1mm×0.75
采用技術——積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)均明。
采用進口精密光柵、進口電機、進口導軌、進口絲杠實現(xiàn)工件定位和曝光拼接,可適應100×100mm基片。
采用CCD檢焦系統(tǒng)實現(xiàn)整場調平、自動逐場調焦或自動選場調焦曝光。
具備對準功能
2.技術參數(shù)
光源:350W球形汞燈(曝光譜線: i線);
照明均勻性:±2%;
物鏡倍率:14倍
曝光場面積:1mm×0.75mm
光刻分辨力:1 μm
工件臺運動范圍:X:100mm、 Y:100mm;
工件臺運動定位精度:±0.65μm;
調焦臺運動靈敏度:1μm;
對準精度:±2μm;
調焦臺運動行程:6mm
檢焦:CCD檢測,檢測精度2微米
轉動臺行程:±6°以上
基片尺寸 外徑:Ф1mm—Ф100mm,厚度:0.1mm--5mm
3.外形尺寸:840mm(長)×450mm(寬) × 830mm(高)
標簽:     上海市無掩膜光刻機   上海市無掩膜光刻機廠家
企業(yè)誠信檔案
鑫有研電子科技有限公司
19
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注冊資金:5000萬以上

聯(lián)系人:陳先生

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移動手機:13761297466

企業(yè)地址:上海市 上海市 普陀區(qū)

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