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無掩膜光刻機

上海市無掩膜光刻機廠家

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詳細信息（無掩膜光刻機）

無掩膜光刻機型號：DS-2000/14
1．技術特征
采用DMD作為數(shù)字掩模，像素1024 × 768
采用14倍縮小投影光刻物鏡成像，一次曝光面積約1mm×0.75
采用技術——積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)均明。
采用進口精密光柵、進口電機、進口導軌、進口絲杠實現(xiàn)工件定位和曝光拼接，可適應100×100mm基片。
采用CCD檢焦系統(tǒng)實現(xiàn)整場調平、自動逐場調焦或自動選場調焦曝光。
具備對準功能
2．技術參數(shù)
光源：350W球形汞燈（曝光譜線： i線）；
照明均勻性：±2%；
物鏡倍率：14倍
曝光場面積：1mm×0.75mm
光刻分辨力：1 μm
工件臺運動范圍：X：100mm、 Y：100mm；
工件臺運動定位精度：±0.65μm；
調焦臺運動靈敏度：1μm；
對準精度：±2μm；
調焦臺運動行程：6mm
檢焦：CCD檢測，檢測精度2微米
轉動臺行程：±6°以上
基片尺寸外徑:Ф1mm—Ф100mm，厚度：0.1mm--5mm
3．外形尺寸：840mm（長）×450mm(寬) × 830mm（高）
標簽：上海市無掩膜光刻機上海市無掩膜光刻機廠家