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HMDS基片預(yù)處理系統(tǒng)

上海市基片預(yù)處理系統(tǒng)廠家

價(jià)格： 電議

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詳細(xì)信息（HMDS基片預(yù)處理系統(tǒng)）

一、技術(shù)參數(shù)：

電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率：2400W

控溫范圍：室溫+10℃-250℃

溫度分辨率：0.1℃

溫度波動(dòng)度：±0.5℃

達(dá)到真空度：133Pa

容積：90L

工作室尺寸（mm）：450*450*450(可選擇)

載物托架：2塊

時(shí)間單位：min

二、HMDS烘箱特點(diǎn)：

1、采用醫(yī)用級(jí)不銹鋼316L材質(zhì)制造，內(nèi)膽為不銹鋼316L；加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周，內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內(nèi)物體一目了然。

2、箱門閉合松緊能調(diào)節(jié)，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內(nèi)高真空度。

3、微電腦智能控溫儀，具有設(shè)定，測定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能，控溫，可靠。

4、智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套進(jìn)口PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序，溫度，真空度及每一程序時(shí)間。

5、 HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì)，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無外漏顧慮。

6、整個(gè)系統(tǒng)采用優(yōu)質(zhì)材料制造，無發(fā)塵材料，適用100 級(jí)光刻間凈化環(huán)境。

四、HMDS基片預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

標(biāo)簽：上海市基片預(yù)處理系統(tǒng) 上海市基片預(yù)處理系統(tǒng)廠家