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什么叫光刻掩模版在塑料薄膜、塑膠或夾層玻璃化學(xué)反應(yīng)原材料上制做各種各樣作用圖型并精i明確位，便于用以光致抗蝕劑鍍層可選擇性曝i光的這種構(gòu)造，稱(chēng)之為光刻掩模板。半導(dǎo)體材料集成電路芯片制做全過(guò)程一般 必須歷經(jīng)數(shù)次光刻工藝，在半導(dǎo)體材料結(jié)晶表層的物質(zhì)層上開(kāi)掘各種各樣夾雜對(duì)話(huà)框、電級(jí)觸碰孔或在導(dǎo)電性層上刻蝕金屬材料互聯(lián)圖型。光刻工藝必須整套（幾片多至十幾元）相互之間能精i確套準(zhǔn)的、具備特殊圖形的光打印掩蔽模板。

半導(dǎo)體材料光掩模市場(chǎng)集中度高，壟斷競(jìng)爭(zhēng)市場(chǎng)比較嚴(yán)重，Photronics、大日本國(guó)包裝印刷株式會(huì)社DNP和日本國(guó)凸版印刷株式會(huì)社Toppan3家占有80%左右的市場(chǎng)占有率。在我國(guó)的光掩膜版制造行業(yè)僅可以滿(mǎn)足中國(guó)中低端商品市場(chǎng)需求，高i檔光掩膜版則由海外企業(yè)立即出示。現(xiàn)階段，中國(guó)的光掩膜版公司關(guān)鍵集中化上海市區(qū)、北京市、深圳市及江浙滬地區(qū)，他們的銷(xiāo)售市場(chǎng)著重點(diǎn)不盡相同。

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光掩膜除開(kāi)運(yùn)用于集成ic生產(chǎn)制造外，還普遍的運(yùn)用與像LCD，PCB等層面。普遍的光掩膜的類(lèi)型有幾種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液*凸版。關(guān)鍵分2個(gè)構(gòu)成，基鋼板和不透原材料?；摪逡话?是高純，低透射率，低線(xiàn)膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透層是根據(jù)濺射的方式鍍?cè)趭A層玻璃正下方厚約0.1um的鉻層。鉻的強(qiáng)度比夾層玻璃略小，雖不容易損傷但是將會(huì)被夾層玻璃所損害。運(yùn)用于集成ic生產(chǎn)制造的光掩膜為高敏感性的鉻版。