離子束刻蝕機 NIE-4000（A）全自動IBE離子束刻蝕 那諾-馬斯特
[刻蝕系統(tǒng)
刻蝕設(shè)備
離子束刻蝕
離子刻蝕
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干法刻蝕機
半導體刻蝕機
干法刻蝕設(shè)備]
上海市離子束刻蝕機廠家
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- 品牌： 其他
- 型號： NIE-4000（A）
- 加工定制： 是
- 類型： 其他
- 產(chǎn)品用途： 醫(yī)療衛(wèi)生化工生物產(chǎn)業(yè)電子制藥
NIE-4000（A）全自動IBE離子束刻蝕產(chǎn)品概述：利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過大面積離子源產(chǎn)生的離子束，可對固體材料濺射刻蝕，對固體器件進行微細加工。該系統(tǒng)為全自動上下載片，計算機全自動控制的系統(tǒng)。
NANO-MASTER技術(shù)已經(jīng)證明了可以把基片溫度控制在50° C以內(nèi)的同時，旋轉(zhuǎn)晶圓片以達到想要的均勻度。
NIE-4000（A）全自動IBE離子束刻蝕產(chǎn)品特點：
- 14.5”不銹鋼立體離子束腔體
- 16cm DC離子槍1200eV,650mA, 氣動不銹鋼遮板
- 離子束中和器
- 氬氣MFC
- 6”水冷樣品臺
- 晶片旋轉(zhuǎn)速度3、10RPM，真空步進電機
- 步進電機控制晶圓片傾斜
- 自動上下載晶圓片
- 典型刻蝕速率：銅200 ?/min, 硅：500 ?/min
- 6”范圍內(nèi)，刻蝕均勻度+/-3%
- 極限真空5x10-7Torr，20分鐘內(nèi)可達到10-6Torr級別（配套500 l/s渦輪分子泵）
- 配套1000 l/s渦輪分子泵，極限真空可達8x10-8Torr
- 磁控濺射Si3N4以保護被刻蝕金屬表面被氧化
- 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
- 菜單驅(qū)動，4級密碼訪問保護
- 完整的安全聯(lián)鎖
那諾-馬斯特中國有限公司
注冊資金：尚未完善
聯(lián)系人：張經(jīng)理
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