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薄膜沉積系統(tǒng) NLD-3500(A)全自動原子層沉積設(shè)備那諾-馬斯特

[PEALD系統(tǒng)

薄膜沉積系統(tǒng)

化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

ald原子層沉積

原子層沉積]

上海市原子層沉積廠家

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詳細(xì)信息（薄膜沉積系統(tǒng) NLD-3500(A)全自動原子層沉積設(shè)備那諾-馬斯特）

品牌： 其他
型號： NLD-3500(A)
加工定制： 是
類型： 其他
產(chǎn)品用途： 醫(yī)療衛(wèi)生化工生物產(chǎn)業(yè)電子制藥

NLD-3500(A)全自動原子層沉積設(shè)備概述：原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用。ALD原子層沉積可以滿足膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會帶來非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性，可以提供優(yōu)異的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實(shí)現(xiàn)到大基片上。

NLD-3500(A)全自動原子層沉積設(shè)備特點(diǎn)：NLD-3500（A）是一款全自動獨(dú)立的PC計(jì)算機(jī)控制的ALD原子層沉積系統(tǒng)，帶Labview軟件，具備四級密碼控制的用戶授權(quán)保護(hù)功能。系統(tǒng)為全自動的安全互鎖設(shè)計(jì)，并提供了強(qiáng)大的靈活性，可以用于沉積多種薄膜（如：AL₂O₃, AlN, TiN, ZrO₂, LaO₂, HfO₂,等等）。應(yīng)用領(lǐng)域包含半導(dǎo)體、光伏、MEMS等。NLD-3500（A）系統(tǒng)提供12”的鋁質(zhì)反應(yīng)腔體，帶有加熱腔壁和氣動升降頂蓋，非常方便腔體的訪問和清潔。該系統(tǒng)擁有一個(gè)載氣艙包含多達(dá)7個(gè)50ml的加熱汽缸，用于前驅(qū)體以及反應(yīng)物，同時(shí)帶有N2或者Ar作為運(yùn)載氣體的快脈沖加熱傳輸閥。

NLD-3500（A）NLD-3500(A)全自動原子層沉積設(shè)備選配：NLD-3500（A）系統(tǒng)的選配項(xiàng)包含，ICP離子源(用于等離子增強(qiáng)的PEALD)，臭氧發(fā)生器，等等。

NLD-3500（A）NLD-3500(A)全自動原子層沉積設(shè)備應(yīng)用：